[发明专利]溅射金属靶材及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 202210333514.3 | 申请日： | 2022-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN114657526A | 公开（公告）日： | 2022-06-24 |
| 发明（设计）人： | 姜庆;袁海江 | 申请（专利权）人： | 长沙惠科光电有限公司;惠科股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;B22F3/02;B22F3/10;B22F3/24;B22F9/04;D01D5/00 |
| 代理公司： | 北京华夏泰和知识产权代理有限公司 11662 | 代理人： | 刘敏 |
| 地址： | 410324 湖南省长*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本申请涉及半导体器件领域，公开了溅射金属靶材及其制备方法和应用。本申请所述溅射金属靶材制备工艺包括制备溅射金属靶材粉末、制备素坯、分段脱胶和高温烧结工序；其中，所述制备溅射金属靶材粉末通过静电纺丝工艺制备获得。本申请首次开发了使用静电纺丝法将金属的醋酸盐合成溅射金属靶材的制备工艺，所制备的合金靶材粉末达到纳米级，介于50‑200nm，本申请溅射金属靶材及其制备方法不仅增加了靶材粉末制备的新方式，而且更小粒径的靶材有利于混合的均一性，能够保证后续磁控溅射方式下金属薄膜的性能，优于常规的溶胶‑凝胶工艺。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 金属 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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