[发明专利]一种基于悬空石墨烯/氮化硼异质结的真空晶体管及其制备方法、应用在审

专利信息
申请号: 202210270004.6 申请日: 2022-03-18
公开(公告)号: CN114724905A 公开(公告)日: 2022-07-08
发明(设计)人: 罗芳;崔子孺;朱梦剑;张检发;朱志宏;秦石乔 申请(专利权)人: 中国人民解放军国防科技大学
主分类号: H01J21/10 分类号: H01J21/10;H01J19/24
代理公司: 长沙国科天河知识产权代理有限公司 43225 代理人: 陈俊好
地址: 410073 湖*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明公开一种基于悬空石墨烯/氮化硼异质结的真空晶体管及其制备方法、应用,该制备方法包括制备金属电极、刻蚀沟道以及转移六方氮化硼‑石墨烯复合结构三个步骤,直接利用硅基底作为集电极,极大的简化了制备工艺。本发明中设计的真空晶体管器件结构极具创新性,充分利用氮化硼与石墨烯之间的结合力,将石墨烯/氮化硼异质结整体悬浮在沟道上方,有效降低了石墨烯断裂、塌陷、卷曲和褶皱的概率,克服了传统制备悬空石墨烯器件成功率极低的困难,极大提高了悬空石墨烯器件制备的成功率,且制备得到的真空晶体管结构稳定性更强。使用新的转移方法,避免了石墨烯与其它溶液等介质的接触,有效地解决了现有掺杂的问题。
搜索关键词: 一种 基于 悬空 石墨 氮化 硼异质结 真空 晶体管 及其 制备 方法 应用
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