[实用新型]真空集成电子器件有效
申请号: | 201621269087.3 | 申请日: | 2016-09-29 |
公开(公告)号: | CN206059338U | 公开(公告)日: | 2017-03-29 |
发明(设计)人: | D·帕蒂;M·S·金 | 申请(专利权)人: | 意法半导体股份有限公司;意法半导体有限公司 |
主分类号: | H01J21/10 | 分类号: | H01J21/10 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所11256 | 代理人: | 王茂华 |
地址: | 意大利阿格*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种真空集成电子器件,具有导电材料的阳极区;阳极区之上的绝缘区;延伸穿过绝缘区并且具有侧壁的腔;以及阴极区。阴极区具有尖端部分,尖端部分在腔内的周边地延伸并且邻近腔的侧壁。阴极区通过倾斜沉积形成,以相对于器件表面的垂线呈30‑60°角实现倾斜沉积。 | ||
搜索关键词: | 真空 集成 电子器件 | ||
【主权项】:
一种真空集成电子器件,其特征在于,包括:导电材料的阳极区;在所述阳极区之上的绝缘区;延伸穿过所述绝缘区并且具有侧壁的腔;以及具有尖端部分的阴极区,所述尖端部分在所述腔内周边地延伸并且邻近所述腔的所述侧壁。
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