[发明专利]一种降低芯片静态电压衰减的方法和系统在审
申请号: | 202210226624.X | 申请日: | 2022-03-07 |
公开(公告)号: | CN114823403A | 公开(公告)日: | 2022-07-29 |
发明(设计)人: | 李威谕;叶甜春;朱纪军;李彬鸿;罗军;赵杰 | 申请(专利权)人: | 澳芯集成电路技术(广东)有限公司;广东省大湾区集成电路与系统应用研究院 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;H01L23/544 |
代理公司: | 无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙) 32260 | 代理人: | 苗雨 |
地址: | 510000 广东省广州市黄*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及半导体技术领域,公开了一种降低芯片静态电压衰减的方法和系统,其中方法包括以下步骤,S1:获取芯片的电路布局图;S2:将芯片的电路布局图中的属性相同的金属层作为一个检测金属层组,属性相同是指检测金属层组的所有金属层输入或者输出同一个电信号;S3:在芯片的电路布局图中查找检测金属层组中的不同高度的两条金属层所产生的重叠区域;S4:判断检测金属层组中的不同高度的两条金属层在其产生的重叠区域处是否连接;在实际使用时,本发明通过判断电路布局图中的不同高度且属性相同的金属层是否在其重叠区域连接,来检查出芯片的电路布局图中的失联区域,进而强化芯片布局,提高芯片的电网密度,降低芯片金属层的整体压降。 | ||
搜索关键词: | 一种 降低 芯片 静态 电压 衰减 方法 系统 | ||
【主权项】:
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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