[发明专利]一种硅片镀膜用的防落装置在审
| 申请号: | 202210207504.5 | 申请日: | 2022-03-03 |
| 公开(公告)号: | CN114540798A | 公开(公告)日: | 2022-05-27 |
| 发明(设计)人: | 刘翠翠;徐亮 | 申请(专利权)人: | 江西汉可泛半导体技术有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;H01L31/18 |
| 代理公司: | 南昌贤达专利代理事务所(普通合伙) 36136 | 代理人: | 金一娴 |
| 地址: | 332020 江西省*** | 国省代码: | 江西;36 |
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| 摘要: | 本发明公开了一种硅片镀膜用的防落装置,包括:销钉;锯齿压块,设置在所述销钉上;夹持装置,设置在外部抓取装置上,随外部抓取装置一起运动将所述销钉插入载板上的销钉孔内或将所述销钉从销钉孔内脱离。发明采用销钉替代传统的盖板结构,简化了固定硅片的机构,增加了自动化实现的便利程度;压块锯齿型设计,以最大限度的减少压硅片的面积,从而增加了硅片整体镀膜的面积,无形中增加了每片硅电池的发电量,从而增加了最终发电量;整体采用圆形无角度设计,可以任意角度放置,方便取放;采用电磁铁,可稳固的固定硅片,防止硅片掉落或较大角度的倾斜,减少损坏率。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 硅片 镀膜 装置 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





