[发明专利]基板处理设备及基板处理方法在审
| 申请号： | 202210189062.6 | 申请日： | 2022-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN114999882A | 公开（公告）日： | 2022-09-02 |
| 发明（设计）人： | 朴正薰;金润相;全珉星;赵顺天;崔圣慜;洪镇熙 | 申请（专利权）人： | 细美事有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 张凯 |
| 地址： | 韩国忠清南道天安*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及基板处理设备及基板处理方法。本发明构思提供一种基板处理设备。所述基板处理设备包含：具有处理空间的腔室；置放于所述处理空间内且支撑基板的支撑单元；及用于自供应至所述处理空间的工艺气体产生等离子的等离子产生单元，且其中所述等离子产生单元包含：第一电极及面向所述第一电极的第二电极，所述第二电极由能够传输电磁波的材料制成。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 设备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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