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[发明专利]基板处理设备和基板处理方法-CN202211524011.0在审
发明人： 金润相;崔伦硕;郑映大;赵顺天;吴世勋 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-11-30 - 公布日： 2023-07-11 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：提供了一种基板处理设备和一种基板处理方法。所述基板处理设备包括：腔室，所述腔室用于提供处理空间；基板支撑单元，所述基板支撑单元设置在所述处理空间中以支撑基板和旋转所述基板；液体供应单元，所述液体供应单元包括化学液体排放喷嘴，所述化学液体排放喷嘴将化学液体排放到由所述基板支撑单元支撑的所述基板；以及微波施加构件，所述微波施加构件用于向所述基板发射微波。
处理设备方法

[发明专利]晶圆用干式清洗装置-CN202210487895.0在审
发明人：金光烈;金润相 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-05-06 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及晶圆用干式清洗装置，更详细地涉及可以利用激光来有效地去除晶圆表面的有机残留物的晶圆用干式清洗装置。本发明提供一种晶圆用干式清洗装置，用于对晶圆表面的有机残留物进行干式清洗，其中，所述晶圆用干式清洗装置包括：激光光源，照射激光；准直光学系统，使得从所述激光光源照射的激光平行地行进；均匀光学系统，使得通过所述准直光学系统的光均匀；以及成像光学系统，用于将通过所述均匀光学系统的光调节成符合晶圆的尺寸。
晶圆用干式清洗装置

[发明专利]基板处理装置及方法-CN202210826341.9在审
发明人：全瑛恩;金润相;全珉星;金志宪;陈永炤;洪镇熙;崔圣慜;张东荣 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-07-13 - 公布日： 2023-05-19 - 主分类号： H01L21/311 文献下载
摘要：本发明提供能够在不损伤工艺腔室的情况下稳定地执行原子层蚀刻的基板处理方法。所述基板处理方法包括以下步骤：向腔室内提供包括目标层的基板；利用包括氯的第一气体在所述腔室内形成第一等离子体，以对所述目标层执行第一改质；利用包括氧的第二气体在所述腔室内形成第二等离子体，以对经第一改质的所述目标层执行第二改质；向所述腔室内提供前驱体，以使经第二改质的所述目标层与所述前驱体反应；以及重复执行形成所述第一等离子体、形成所述第二等离子体和提供所述前驱体，以去除所述目标层的至少一部分。
处理装置方法

[发明专利]小桶盖及具有所述小桶盖的小桶-CN202080103526.6在审
发明人：姜兑欥;李垣析;丁昌薰;姜炳圭;李承哲;金润相 -专利权人：因德凯歌株式会社
申请日： 2020-10-26 - 公布日： 2023-05-19 - 主分类号： C12C13/00 文献下载
摘要：本发明涉及发酵饮料制造装置及其制造方法，更具体来讲涉及即使没有专业知识、酿造设备也能够制造手工发酵饮料的发酵饮料制造装置及其制造方法。根据本发明的一个实施例，可提供一种发酵饮料制造装置，是包括与储存有原液的小桶连接的流道模块的发酵饮料制造装置，其特征在于，所述流道模块包括：用于原液移动的原液流道；用于气体移动的气体流道；与所述小桶的小桶盖结合的情况下，将所述小桶的内部独立地连接到所述原液流道及气体流道的联结器；设于所述原液流道和气体流道之间，将所述原液流道连通到所述气体流道的中间罐；以及设于所述原液流道上的泵。
桶盖有所小桶

[发明专利]用于处理基板的设备及其操作方法-CN202211287319.8在审
发明人：崔伦硕;金润相;赵顺天;李相政;曹玹玗;朴钟源 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-10-20 - 公布日： 2023-04-21 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明构思提供了一种基板处理设备。所述基板处理设备包括：多个处理腔室，其用于使用微波能量执行第一过程；一个微波发生器，其用于产生微波；波导，所述波导连接到所述多个处理腔室中的每一个和所述微波发生器；以及微波路径改变构件，所述微波路径改变构件设置在所述波导的微波传送路径处并且改变所述多个处理腔室中的一个所选腔室的微波传送路径。
用于处理设备及其操作方法

[发明专利]天线构件和用于处理基板的设备-CN202211290808.9在审
发明人：崔伦硕;金润相;丁宣旭 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-10-20 - 公布日： 2023-04-21 - 主分类号： H01Q1/36 文献下载
摘要：本发明构思提供一种天线构件。在一个实施例中，所述天线构件包括彼此旋转对称的第一线圈和第二线圈，并且其中所述第一线圈包括施加以电流的第一电源端子和连接到地的第一接地端子，所述第二线圈包括施加以电流的第二电源端子和连接到地的第二接地端子，并且其中所述第一线圈和所述第二线圈各自包括具有弧形的第一部分和具有弧形的第二部分，所述第一部分和所述第二部分作为整体形成一圈绕组，并且当从侧面观察时，所述第二部分相对于所述第一部分具有较低的高度，并且所述第二线圈的所述第二部分定位在所述第一线圈的所述第一部分下方，并且所述第一线圈的所述第二部分定位在所述第二线圈的所述第一部分下方。
天线构件用于处理设备

[发明专利]发酵饮料制造装置-CN202080103524.7在审
发明人：姜兑欥;李垣析;丁昌薰;姜炳圭;李承哲;金润相 -专利权人：因德凯歌株式会社
申请日： 2020-11-10 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： B67D1/08 文献下载
摘要：本发明涉及发酵饮料制造装置及其制造方法，更具体来讲涉及即使没有专业知识、酿造设备也能够制造手工发酵饮料的发酵饮料制造装置及其制造方法。根据本发明的一个实施例，可提供一种的发酵饮料制造装置，是包括与储存有原液的小桶连接的流道模块的发酵饮料制造装置，其特征在于，所述流道模块包括：用于原液移动的原液流道；用于气体移动的气体流道；与所述小桶的小桶盖结合的情况下，将所述小桶的内部独立地连接到所述原液流道及气体流道的联结器；设于所述原液流道和气体流道之间，将所述原液流道连通到所述气体流道的中间罐；以及设于所述原液流道上的泵。
发酵饮料制造装置

[发明专利]发酵饮料制造装置-CN202080103525.1在审
发明人：姜兑欥;李垣析;丁昌薰;姜炳圭;李承哲;金润相 -专利权人：因德凯歌株式会社
申请日： 2020-10-26 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： C12C11/00 文献下载
摘要：本发明涉及发酵饮料制造装置及其制造方法，更具体来讲涉及即使没有专业知识、酿造设备也能够制造手工发酵饮料的发酵饮料制造装置及其制造方法。根据本发明的一个实施例，可提供一种发酵饮料制造装置，包括：底部框架；位于所述底部框架的上部，被设置成能够相对于所述底部框架向水平方向旋转的下部单元框架；具有分别能够通过前方开口部出入的腔体，设于所述下部单元框架的上部且配置成沿着圆周方向相互抵接的多个1层单元外壳；具有分别能够通过前方开口部出入的腔体，设于所述多个1层单元外壳的上部且配置成沿着圆周方向相互抵接的多个2层单元外壳；设于所述多个2层单元外壳的上部的上部单元框架；以及被设置成包围所述上部单元框架，在内部形成机械室的机械室壳体。
发酵饮料制造装置

[发明专利]用于处理基板的设备和用于处理基板的方法-CN202211097956.9在审
发明人：崔伦硕;金润相;丁宣旭 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-09-08 - 公布日： 2023-03-10 - 主分类号： H05B6/68 文献下载
摘要：本发明构思提供了一种基板处理设备。在实施方式中，所述基板处理设备包括：处理室，在所述处理室中具有用于处理基板的处理空间；基板支撑单元，所述基板支撑单元被配置为在所述处理空间中支撑所述基板；以及微波施加单元，所述微波施加单元被配置为向所述处理空间施加微波，并且其中所述微波施加单元包括基于固态器件的微波功率发生器。
用于处理设备方法

[发明专利]基板处理装置-CN202211035251.4在审
发明人：全珉星;金润相;崔圣慜;张东荣 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-08-26 - 公布日： 2023-03-03 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明构思提供了一种基板处理装置。基板处理装置包括：腔室，在该腔室中具有处理空间；支撑单元，其位于处理空间内并且被配置为支撑基板；以及等离子体生成单元，其被配置为从供应到处理空间的加工气体生成等离子体，并且其中，等离子体生成单元包括：底部电极构件以及被设置为与底部电极相对的顶部电极构件，并且其中，顶部电极构件包括：第一极板；以及在第一极板上并且具有图案的电极图案。
处理装置

[发明专利]基板处理装置-CN202211033877.1在审
发明人：全珉星;金润相;崔圣慜;张东荣;金志宪;陈永炤 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-08-26 - 公布日： 2023-02-28 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明构思提供一种基板处理装置。该基板处理装置包括：内部具有处理空间的腔室；位于所述处理空间内并被构造用于支撑基板的支撑单元；以及被构造用于从供应至所述处理空间的工艺气体产生等离子体的等离子体产生单元，并且其中所述等离子体产生单元包括底部电极构件以及与所述底部电极构件相对的顶部电极构件，并且其中所述顶部电极构件包括第一极板和在所述第一极板上且包括电极的电极层。
处理装置

[发明专利]用于处理基板的装置和用于处理基板的方法-CN202210724677.4在审
发明人：洪镇熙;崔圣慜;金润相;全珉星;全瑛恩;张东荣 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-06-23 - 公布日： 2022-12-23 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明涉及用于处理基板的装置和用于处理基板的方法。基板处理装置包括：腔室，其提供处理空间；支承单元，其在处理空间处支承基板；气体供应单元，其被配置为将气体引入到处理空间；等离子体源，其被配置为提供用于将引入到处理空间的气体激发成等离子体的能量；排放单元，其被配置为将处理空间内的气氛排放到处理空间的外侧；以及加热源，其定位在支承单元的上方，并且其中，加热源将加热能量以脉冲形式施加到基板。
用于处理装置方法

[发明专利]用于处理基板的装置和用于处理基板的方法-CN202210725904.5在审
发明人：金光烈;朴正薰;金润相 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-06-23 - 公布日： 2022-12-23 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明构思提供了一种用于处理基板的装置和用于处理基板的方法。该基板处理装置包括：腔室，该腔室设置有处理空间；基板支承单元，该基板支承单元设置在该处理空间中；窗口，该窗口设置在该腔室的顶部处；以及光学模块，该光学模块设置在该窗口上方、且配置为通过该窗口将激光光束传输到基板，并且其中，该光学模块包括：均化光学器件，该均化光学器件配置为将该激光光束均化成均匀的光束分布；以及成像光学器件，该成像光学器件配置为控制该激光光束的大小。
用于处理装置方法

[发明专利]基板处理装置及基板处理方法-CN202210693269.7在审
发明人：崔伦硕;赵顺天;金润相 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-06-17 - 公布日： 2022-12-20 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明涉及一种基板处理装置及基板处理方法。该基板处理装置包括：在其中形成用于处理基板的内部空间的工艺腔室、用于将该内部空间划分为等离子体生成空间和处理空间的离子阻挡器、用于该处理空间中支承基板的基板支承单元、用于排放处理空间的排放单元、定位在离子阻挡器的上方并通过离子阻挡器将用于退火的能量传输至基板的退火源、和用于将工艺气体供应至等离子体生成空间的气体供应单元，其中，离子阻挡器包括：本体，该本体成形为类似盘、由微波可传输的材料制成、且形成有多个通孔；以及透明导电氧化物膜，该透明导电氧化物膜以第一厚度或更小的厚度设置在本体的上表面和下表面中的至少一个上。
处理装置方法

[发明专利]基板处理设备及基板处理方法-CN202210189062.6在审
发明人：朴正薰;金润相;全珉星;赵顺天;崔圣慜;洪镇熙 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-02-28 - 公布日： 2022-09-02 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明涉及基板处理设备及基板处理方法。本发明构思提供一种基板处理设备。所述基板处理设备包含：具有处理空间的腔室；置放于所述处理空间内且支撑基板的支撑单元；及用于自供应至所述处理空间的工艺气体产生等离子的等离子产生单元，且其中所述等离子产生单元包含：第一电极及面向所述第一电极的第二电极，所述第二电极由能够传输电磁波的材料制成。
处理设备方法

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