[发明专利]成膜装置、成膜方法以及电子器件的制造方法在审
| 申请号： | 202210174974.6 | 申请日： | 2022-02-25 |
| 公开（公告）号： | CN114959586A | 公开（公告）日： | 2022-08-30 |
| 发明（设计）人： | 山崎将大;上田利幸;神野纮隆 | 申请（专利权）人： | 佳能特机株式会社;株式会社沙迪克 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/54;C23C14/04;H01L51/56 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 韩卉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及成膜装置、成膜方法以及电子器件的制造方法。使基板更可靠地吸附于吸附板。一种成膜装置，其特征在于，该成膜装置具备：腔室，其将内部保持为真空；吸附板，其设置于腔室的内部，具有产生用于吸附基板的静电力的电极；电压控制部件，其向电极施加第1电压和产生比施加第1电压的情况大的静电力的第2电压；以及检测部件，其检测基板向吸附板的吸附状态，在向电极施加第1电压而使吸附板吸附基板的状态下，在由检测部件检测到基板的一部分未吸附于吸附板的情况下，所述电压控制部件向电极施加第2电压。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 方法 以及 电子器件 制造 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能特机株式会社;株式会社沙迪克，未经佳能特机株式会社;株式会社沙迪克许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202210174974.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
