[发明专利]一种用于半导体晶片的光刻胶涂抹装置

摘要

本发明公开了一种用于半导体晶片的光刻胶涂抹装置，属于晶片加工技术领域，一种用于半导体晶片的光刻胶涂抹装置，包括箱体、机器手臂、存储罐和晶片本体，所述存储罐位于箱体内，所述存储罐侧壁联通有进气管，所述箱体内设有电机，所述电机的输出端连接有第一转轴，所述存储罐上设有投料口，所述投料口上螺纹连接有密封盖，所述密封盖内设有辅助密封机构，所述箱体内转动连接有第四转轴，所述第一转轴和第四转轴之间通过第二皮带相连接，所述第四转轴上设有风扇，所述箱体内设有空心罩；本发明工作简单，稳定可靠，实现防止氮气泄露的同时，又对晶片本体周围的灰尘进去去除，良品率得到提升。