[发明专利]一种用于半导体晶片的光刻胶涂抹装置

权利要求书

1.一种用于半导体晶片的光刻胶涂抹装置，包括箱体(1)、机器手臂(102)、存储罐(2)和晶片本体(4)，所述存储罐(2)位于箱体(1)内，其特征在于，所述存储罐(2)侧壁联通有进气管(201)，所述箱体(1)内设有电机(5)，所述电机(5)的输出端连接有第一转轴(501)，所述存储罐(2)上设有投料口(10)，所述投料口(10)上螺纹连接有密封盖(1001)，所述密封盖(1001)内设有辅助密封机构，所述箱体(1)内转动连接有第四转轴(9)，所述第一转轴(501)和第四转轴(9)之间通过第二皮带(901)相连接，所述第四转轴(9)上设有风扇(1301)，所述箱体(1)内设有空心罩(13)，所述风扇(1301)位于空心罩(13)内，所述投料口(10)侧壁设有挡板(1302)，所述挡板(1302)与空心罩(13)之间连接有第四空心管(1303)，所述箱体(1)内设有过滤箱(14)，所述过滤箱(14)与空心罩(13)之间连接有第五空心管(1304)，所述过滤箱(14)内设有过滤层(1401)，所述箱体(1)上设有吸尘筒(908)，所述吸尘筒(908)底部设有静电发生机构。

2.根据权利要求1所述的一种用于半导体晶片的光刻胶涂抹装置，其特征在于，所述箱体(1)上设有工作台(703)，所述晶片本体(4)位于工作台(703)上，所述箱体(1)上固定连接有架体(101)，所述架体(101)侧壁设有机器手臂(102)，所述机器手臂(102)的输出端连接有涂抹管(103)，所述涂抹管(103)与存储罐(2)之间连接有第一空心管(3)，所述第一空心管(3)上设有电磁阀(301)。

3.根据权利要求2所述的一种用于半导体晶片的光刻胶涂抹装置，其特征在于，所述辅助密封机构包括第一滑动板(1201)和第二滑动板(1202)，所述密封盖(1001)内设有滑动槽(12)，所述第一滑动板(1201)和第二滑动板(1202)均滑动连接在滑动槽(12)内，所述第一滑动板(1201)和第二滑动板(1202)之间设有第二弹簧(1203)，所述第一滑动板(1201)和投料口(10)上均设有橡胶垫(1204)。

4.根据权利要求3所述的一种用于半导体晶片的光刻胶涂抹装置，其特征在于，所述箱体(1)内设有第二活塞(1101)，所述第一转轴(501)上设有第二曲轴(11)，所述第二活塞(1101)与第二曲轴(11)转动连接，所述第二活塞(1101)与滑动槽(12)之间连接有第三空心管(1102)，所述第三空心管(1102)上设有第二转动开关(1103)、泄压阀和单向阀。

5.根据权利要求2所述的一种用于半导体晶片的光刻胶涂抹装置，其特征在于，所述静电发生机构包括第一摩擦片(903)和第二摩擦片(906)，所述箱体(1)上设有导电板(907)，所述吸尘筒(908)固定在导电板(907)上，所述第二摩擦片(906)固定在导电板(907)底部，所述第四转轴(9)上固定连接有凹型筒(902)，所述第一摩擦片(903)滑动连接在凹型筒(902)内，所述第一摩擦片(903)与凹型筒(902)之间设有第一弹簧(904)，所述第一摩擦片(903)和第二摩擦片(906)相贴，所述第一摩擦片(903)侧壁设有滑动杆(905)。

6.根据权利要求2所述的一种用于半导体晶片的光刻胶涂抹装置，其特征在于，所述箱体(1)顶部转动连接有空心筒(702)，所述工作台(703)固定在空心筒(702)上，所述箱体(1)内转动连接有第二转轴(601)和第三转轴(7)，所述第一转轴(501)上设有蜗杆(6)，所述第二转轴(601)上分别设有蜗轮(602)和第一齿轮(603)，所述蜗轮(602)与蜗杆(6)啮合连接，所述第三转轴(7)上设有与第一齿轮(603)啮合连接的第二齿轮(701)，所述第三转轴(7)与空心筒(702)之间通过第一皮带(704)相连接。