[发明专利]半导体装置在审

专利信息
申请号: 202210053083.5 申请日: 2022-01-18
公开(公告)号: CN115274648A 公开(公告)日: 2022-11-01
发明(设计)人: 金恩靓;金惠远;崔世领 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L27/108
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 沈照千;刘美华
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 提供了半导体装置。所述半导体装置包括:基底,包括单元区域、外围区域以及在单元区域与外围区域之间的边界区域;单元有源图案,在基底的单元区域上;外围有源图案,在基底的外围区域上;边界绝缘图案,设置在基底的边界区域上并且设置在单元有源图案与外围有源图案之间;以及缓冲图案,设置在基底的单元区域上并且设置在边界绝缘图案与单元有源图案之间。缓冲图案在与基底的顶表面平行的第一方向上的宽度可以大于每个单元有源图案在第一方向上的宽度。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
暂无信息
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