[发明专利]成像器件、其制备方法、成像阵列及其制备方法

摘要

本公开涉及一种成像器件、其制备方法、成像阵列及其制备方法，该方法包括：提供量子点光敏材料；基于量子点光敏材料，形成层叠设置的光电二极管；其中，光电二极管包括至少一个第一二极管和至少两个第二二极管，第一二极管和第二二极管依次间隔设置；各第一二极管在第一方向电压下导通，各第二二极管在第二方向电压下导通；第一方向电压和第二方向电压分别为正向电压和反向电压中的一种。由此，该方法不需要焊接烟柱，避免了由烟柱引起的信号响应不均匀和盲元等问题；同时还降低了工序复杂度，减少制造成本。该方法制备的成像器件通过调制偏压实现两种探测模式的切换，简化了成像光路系统与后期软件处理过程，降低了像素损失率和对准偏差。