[实用新型]化学气相沉积装置的密封结构及化学气相沉积装置有效

专利信息
申请号: 202122954024.9 申请日: 2021-11-29
公开(公告)号: CN217104063U 公开(公告)日: 2022-08-02
发明(设计)人: 龙梅丽 申请(专利权)人: 乐金显示光电科技(中国)有限公司
主分类号: C23C16/44 分类号: C23C16/44;C03C17/00
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 吴萌
地址: 510530 广东省广州市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开一种化学气相沉积装置的密封结构及化学气相沉积装置,包括壳体、下电极组件和第一密封件,壳体的底部具有凸起部,凸起部邻近于壳体的外侧壁,下电极组件与壳体连接围成真空腔,下电极组件与壳体的底部之间留有间隙,间隙位于凸起部背离壳体的外侧壁的一侧,第一密封件夹设于凸起部与下电极组件之间。在外界气压的作用下,壳体向真空腔侧倾斜时,通过在下电极组件和壳体底部之间设置的间隙,为壳体提供了倾倒空间,避免了壳体直接挤压到下电极组件,对下电极组件造成破坏。同时多个第一密封件,防止在高温作用下,单个第一密封件失效后,外界空气能够从壳体和下电极组件之间进入真空腔,多个第一密封件的设置,提高了密封性。
搜索关键词: 化学 沉积 装置 密封 结构
【主权项】:
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