[实用新型]化学气相沉积装置的密封结构及化学气相沉积装置

说明书

本实用新型公开一种化学气相沉积装置的密封结构及化学气相沉积装置，包括壳体、下电极组件和第一密封件，壳体的底部具有凸起部，凸起部邻近于壳体的外侧壁，下电极组件与壳体连接围成真空腔，下电极组件与壳体的底部之间留有间隙，间隙位于凸起部背离壳体的外侧壁的一侧，第一密封件夹设于凸起部与下电极组件之间。在外界气压的作用下，壳体向真空腔侧倾斜时，通过在下电极组件和壳体底部之间设置的间隙，为壳体提供了倾倒空间，避免了壳体直接挤压到下电极组件，对下电极组件造成破坏。同时多个第一密封件，防止在高温作用下，单个第一密封件失效后，外界空气能够从壳体和下电极组件之间进入真空腔，多个第一密封件的设置，提高了密封性。

技术领域

本实用新型涉及显示面板技术领域，尤其涉及一种化学气相沉积装置的密封结构及化学气相沉积装置。

背景技术

在显示装置领域，镀膜工艺是一种利用化学反应方式，将反应物生成固态产物，并沉积在基片表面的技术。而镀膜工艺需要利用化学气相沉积装置完成，为保证化学气相沉积装置壳体内的腔室是真空状态，需要对电极和壳体之间进行密封，现有的化学气相沉积装置的密封结构如图1所示，其中壳体1′和下电极组件3′之间通过第一密封件4′密封，壳体1′与上电极2′之间通过第二密封件5′密封。现有技术存在以下缺陷：由于壳体1′内的腔室处于真空状态，在外界气压的作用下，壳体1′容易向真空腔侧倾斜，从而使壳体1′挤压破坏下电极组件3′，同时壳体1′内的腔室还处于高温状态，第一密封件4′在高温下容易失效，单个第一密封件4′的设置，使得第一密封件4′一旦失效，会导致外界空气进入腔室。

实用新型内容

本实用新型的目的在于：提供一种化学气相沉积装置的密封结构及化学气相沉积装置，保证电极与壳体之间的密封性，且避免壳体倾斜破坏电极。

为达上述目的，本实用新型采用以下技术方案：

第一方面，提供一种化学气相沉积装置的密封结构，包括：

壳体，所述壳体的底部具有凸起部，所述凸起部邻近于所述壳体的外侧壁；

下电极组件，所述下电极组件与所述壳体连接围成真空腔，所述下电极组件与所述壳体的底部之间留有间隙，所述间隙位于所述凸起部背离所述壳体的外侧壁的一侧；

多个第一密封件，所述第一密封件夹设于所述凸起部与下电极组件之间。

作为化学气相沉积装置的密封结构的一种优选方案，相邻两个第一密封件之间设置有连接板，所述连接板具有波纹部。

作为化学气相沉积装置的密封结构的一种优选方案，还包括上电极，所述上电极连接于所述壳体，所述上电极与所述壳体之间设置有第二密封件。

作为化学气相沉积装置的密封结构的一种优选方案，所述壳体的内侧壁凸出形成有台阶，所述第二密封件设置在所述台阶上。

作为化学气相沉积装置的密封结构的一种优选方案，还包括：

扩散器，所述扩散器设置于所述真空腔内，且可拆卸连接于所述上电极。

填充块，所述填充块设置于所述扩散器、所述壳体和所述上电极围成的空间内，所述填充块能够保证真空腔内的密封性。

作为化学气相沉积装置的密封结构的一种优选方案，所述壳体上设置有支撑板，所述支撑板能够支撑所述填充块。

作为化学气相沉积装置的密封结构的一种优选方案，所述支撑板的一端与所述壳体的底部之间通过螺栓连接，所述支撑板的另一端朝向所述真空腔的中心延伸，所述填充块的下端与所述支撑板的上表面抵接。

作为化学气相沉积装置的密封结构的一种优选方案，所述支撑板设置有多块，每块都能转动至间隙内，便于所述填充块的取出。