[实用新型]一种连续式真空镀膜装置有效

专利信息
申请号: 202121977203.8 申请日: 2021-08-20
公开(公告)号: CN215887228U 公开(公告)日: 2022-02-22
发明(设计)人: 张孝平;文青松 申请(专利权)人: 深圳市大成精密设备股份有限公司;常州市大成真空技术有限公司;东莞市大成智能装备有限公司
主分类号: C23C16/54 分类号: C23C16/54;C23C16/455
代理公司: 北京双收知识产权代理有限公司 11241 代理人: 刘阳
地址: 518103 广东省深圳市宝安*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 一种连续式真空镀膜装置,包括若干节相连的工艺腔和可在工艺腔中移动的物料车,每节工艺腔的两个开口端均装有阀门,用以实现两个相邻的工艺腔之间的连通与隔断,物料车包括框架、电极板、载板,框架内从上至下具有多个抽屉空间,电极板安装在抽屉空间中,载板设于抽屉空间中且位于电极板的下方。本连续式真空镀膜装置,可在不扩大载板、电极板、匀气件单板面积的前提下,提高生产效率,既避免了因匀气件面积增大带来的制造难度增加的问题,又避免了因电极板面积增大所产生的电场的均匀性控制难度增大的问题,同时也节约了装置的占地面积,降低了制造成本。
搜索关键词: 一种 连续 真空镀膜 装置
【主权项】:
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