[实用新型]一种连续式真空镀膜装置有效
| 申请号: | 202121977203.8 | 申请日: | 2021-08-20 |
| 公开(公告)号: | CN215887228U | 公开(公告)日: | 2022-02-22 |
| 发明(设计)人: | 张孝平;文青松 | 申请(专利权)人: | 深圳市大成精密设备股份有限公司;常州市大成真空技术有限公司;东莞市大成智能装备有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/54 | 分类号: | C23C16/54;C23C16/455 |
| 代理公司: | 北京双收知识产权代理有限公司 11241 | 代理人: | 刘阳 |
| 地址: | 518103 广东省深圳市宝安*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | 一种连续式真空镀膜装置,包括若干节相连的工艺腔和可在工艺腔中移动的物料车,每节工艺腔的两个开口端均装有阀门,用以实现两个相邻的工艺腔之间的连通与隔断,物料车包括框架、电极板、载板,框架内从上至下具有多个抽屉空间,电极板安装在抽屉空间中,载板设于抽屉空间中且位于电极板的下方。本连续式真空镀膜装置,可在不扩大载板、电极板、匀气件单板面积的前提下,提高生产效率,既避免了因匀气件面积增大带来的制造难度增加的问题,又避免了因电极板面积增大所产生的电场的均匀性控制难度增大的问题,同时也节约了装置的占地面积,降低了制造成本。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 连续 真空镀膜 装置 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





