[实用新型]一种连续式真空镀膜装置有效
| 申请号: | 202121977203.8 | 申请日: | 2021-08-20 |
| 公开(公告)号: | CN215887228U | 公开(公告)日: | 2022-02-22 |
| 发明(设计)人: | 张孝平;文青松 | 申请(专利权)人: | 深圳市大成精密设备股份有限公司;常州市大成真空技术有限公司;东莞市大成智能装备有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/54 | 分类号: | C23C16/54;C23C16/455 |
| 代理公司: | 北京双收知识产权代理有限公司 11241 | 代理人: | 刘阳 |
| 地址: | 518103 广东省深圳市宝安*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 连续 真空镀膜 装置 | ||
1.一种连续式真空镀膜装置,其特征在于:包括若干节相连的工艺腔(1)和可在工艺腔(1)中移动的物料车(2),每节所述工艺腔(1)的两个开口端均装有阀门(3),用以实现两个相邻的所述工艺腔(1)之间的连通与隔断,所述物料车(2)包括框架(21)、电极板(23)、载板(24),所述框架(21)内从上至下具有多个抽屉空间(27),所述电极板(23)安装在所述抽屉空间(27)中,所述载板(24)设于抽屉空间(27)中且位于所述电极板(23)的下方。
2.根据权利要求1所述的连续式真空镀膜装置,其特征在于:所述物料车(2)还包括匀气件(22),所述匀气件(22)安装在所述抽屉空间内且位于所述电极板(23)的上方,所述匀气件(22)上具有若干匀气孔。
3.根据权利要求1所述的连续式真空镀膜装置,其特征在于:所述工艺腔(1)上设有电路连接位、气路连接位。
4.根据权利要求1所述的连续式真空镀膜装置,其特征在于:所述载板(24)内部嵌有加热电阻。
5.根据权利要求1所述的连续式真空镀膜装置,其特征在于:所述框架(21)底部安装有滚轮一(25),所述工艺腔(1)内底部铺装有轨道一(11),所述滚轮一(25)与所述轨道一(11)相配合。
6.根据权利要求1所述的连续式真空镀膜装置,其特征在于:所述载板(24)可沿所述抽屉空间(27)进出。
7.根据权利要求6所述的连续式真空镀膜装置,其特征在于:所述载板(24)下安装滚轮二(28),或者抽屉空间(27)内腔的下表面处安装滚轮二。
8.根据权利要求1所述的连续式真空镀膜装置,其特征在于:所述框架(21)底部装有齿条(26),所述工艺腔(1)内装有驱动轮(12),所述驱动轮(12)通过传动轴(13)连接在所述工艺腔(1)的内侧壁上,所述驱动轮(12)与所述齿条(26)相啮合以驱动所述物料车(2)在所述工艺腔(1)内移动。
9.根据权利要求1所述的连续式真空镀膜装置,其特征在于:所述工艺腔(1)采用方形腔。
10.根据权利要求1所述的连续式真空镀膜装置,其特征在于:两个相邻的所述工艺腔(1)共用同一个所述阀门(3)。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





