[实用新型]一种双气化真空镀膜装置有效
申请号: | 202120090894.3 | 申请日: | 2021-01-14 |
公开(公告)号: | CN214458317U | 公开(公告)日: | 2021-10-22 |
发明(设计)人: | 渠艳良;李雷 | 申请(专利权)人: | 派珂纳米科技(苏州)有限公司 |
主分类号: | C23C16/54 | 分类号: | C23C16/54;C23C16/455 |
代理公司: | 苏州创策知识产权代理有限公司 32322 | 代理人: | 范圆圆 |
地址: | 215000 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种双气化真空镀膜装置,包括机架、分解管、分解炉、升华炉以及两个并排设置的升华管;分解炉套设在分解管外且通过安装支架固定安装在机架上;升华管的进料端设有端盖,出料端安装有闸阀;两个升华管的出料端通过一个三通管与分解管的进料端连通;升华炉通过移动组件滑动安装在机架上;利用其中一个升华管镀完一层膜之后,可直接将升华炉移动到另一个升华管外进行二次镀膜,有效提高镀膜效率的同时无需破真空就能完成双层镀膜,避免污染。 | ||
搜索关键词: | 一种 气化 真空镀膜 装置 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的