[实用新型]一种双气化真空镀膜装置有效

专利信息
申请号: 202120090894.3 申请日: 2021-01-14
公开(公告)号: CN214458317U 公开(公告)日: 2021-10-22
发明(设计)人: 渠艳良;李雷 申请(专利权)人: 派珂纳米科技(苏州)有限公司
主分类号: C23C16/54 分类号: C23C16/54;C23C16/455
代理公司: 苏州创策知识产权代理有限公司 32322 代理人: 范圆圆
地址: 215000 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型提供了一种双气化真空镀膜装置,包括机架、分解管、分解炉、升华炉以及两个并排设置的升华管;分解炉套设在分解管外且通过安装支架固定安装在机架上;升华管的进料端设有端盖,出料端安装有闸阀;两个升华管的出料端通过一个三通管与分解管的进料端连通;升华炉通过移动组件滑动安装在机架上;利用其中一个升华管镀完一层膜之后,可直接将升华炉移动到另一个升华管外进行二次镀膜,有效提高镀膜效率的同时无需破真空就能完成双层镀膜,避免污染。
搜索关键词: 一种 气化 真空镀膜 装置
【主权项】:
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