[实用新型]一种双气化真空镀膜装置有效
| 申请号: | 202120090894.3 | 申请日: | 2021-01-14 |
| 公开(公告)号: | CN214458317U | 公开(公告)日: | 2021-10-22 |
| 发明(设计)人: | 渠艳良;李雷 | 申请(专利权)人: | 派珂纳米科技(苏州)有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/54 | 分类号: | C23C16/54;C23C16/455 |
| 代理公司: | 苏州创策知识产权代理有限公司 32322 | 代理人: | 范圆圆 |
| 地址: | 215000 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 气化 真空镀膜 装置 | ||
本实用新型提供了一种双气化真空镀膜装置,包括机架、分解管、分解炉、升华炉以及两个并排设置的升华管;分解炉套设在分解管外且通过安装支架固定安装在机架上;升华管的进料端设有端盖,出料端安装有闸阀;两个升华管的出料端通过一个三通管与分解管的进料端连通;升华炉通过移动组件滑动安装在机架上;利用其中一个升华管镀完一层膜之后,可直接将升华炉移动到另一个升华管外进行二次镀膜,有效提高镀膜效率的同时无需破真空就能完成双层镀膜,避免污染。
技术领域
本实用新型涉及真空镀膜领域,具体涉及一种双气化真空镀膜装置。
背景技术
传统的真空镀膜工艺,通常需要先通过升华炉对镀膜材料进行加热升华,升华后的镀膜材料进入分解炉内进行分解雾化后,再进入镀膜室内对产品进行镀膜。现有的双层镀膜工艺通常需要在镀完第一层膜之后将升华炉内的料斗取出,重复进料、抽真空、升温、升华等动作进行二次镀膜,生产效率较低且容易造成污染。
实用新型内容
针对上述技术问题,本实用新型提供了一种双气化真空镀膜装置。
一种双气化真空镀膜装置,包括机架、分解管、分解炉、升华炉以及两个并排设置的升华管;所述分解炉套设在所述分解管外,且通过安装支架固定安装在所述机架上;所述升华管的进料端设有端盖,出料端安装有闸阀;两个升华管的出料端通过一个三通管与所述分解管的进料端连通;所述升华炉通过移动组件滑动安装在所述机架上,且能分别移动到两个升华管外侧对升华管进行加热。
优选的,所述移动组件包括导杆、第一滑板、导轨以及第二滑板;所述导杆上滑动设置有滑块,导杆的两端通过安装座固定在所述机架上,导杆的长度方向与所述升华管垂直;所述第一滑板的底部与所述滑块固定连接,第一滑板的顶部固定有与所述导轨相匹配的卡块;所述导轨固定在所述第二滑板的底部且与所述卡块滑动配合,导轨的长度方向与所述升华管一致;所述升华炉通过安装支架固定安装在所述第二滑板的顶部。
优选的,所述升华炉上设有方便拉动其滑动的把手。
本实用新型的有益效果是:在分解管的进料端设置两个并排的升华管,并通过移动组件将升华炉滑动安装在机架上;使用时,可在两个升华管内填装不同的镀膜材料,在利用其中一个升华管镀完一层膜之后,可直接将升华炉移动到另一个升华管外进行二次镀膜,能有效提高镀膜效率,同时无需破真空就能完成双层镀膜,避免污染。
附图说明
下面结合附图对本实用新型作进一步的说明。
图1为本实用新型实施例的整体结构示意图;
图2为本实用新型实施例的俯视图;
图中数字表示:
1、机架2、分解管3、分解炉4、升华炉5、升华管6、端盖
7、闸阀8、三通管9、导杆10、第一滑板11、导轨12、第二滑板
13、滑块14、卡块15、把手。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例,基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本实用新型保护的范围。
本实用新型的描述中,需要理解的是,术语中“左”、“右”、“前”、“后”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了方便描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位,以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





