[发明专利]自动聚焦或像差校正的优化方法及带电粒子束设备在审
| 申请号： | 202111647271.2 | 申请日： | 2021-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN114299032A | 公开（公告）日： | 2022-04-08 |
| 发明（设计）人： | 杨康康;刘骊松 | 申请（专利权）人： | 上海精测半导体技术有限公司 |
| 主分类号： | G06T7/00 | 分类号： | G06T7/00;G06T3/40;H01J37/22 |
| 代理公司： | 上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙) 31286 | 代理人： | 黄海霞 |
| 地址： | 201702 上海市青浦区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种自动聚焦或像差校正的优化方法及带电粒子束设备，所述方法，包括：建立关于设备参数的评价函数，以评价自动聚焦或像差校正时的图像质量；建立用于评价第一算法的抗干扰性的判定条件，使用所述第一算法优化评价函数，并在符合所述判定条件时切换为使用第二算法优化评价函数，其中，所述第二算法的抗干扰性高于第一算法；获得当所述评价函数形成极值使得图像质量最优时的设备参数。本发明在第一算法满足判定条件时切换为使用第二算法优化评价函数，可以提高求解过程的抗干扰性，提高计算结果的准确性。 | ||
| 搜索关键词： | 自动 聚焦 校正 优化 方法 带电 粒子束 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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