[发明专利]自动聚焦或像差校正的优化方法及带电粒子束设备在审
| 申请号: | 202111647271.2 | 申请日: | 2021-12-29 |
| 公开(公告)号: | CN114299032A | 公开(公告)日: | 2022-04-08 |
| 发明(设计)人: | 杨康康;刘骊松 | 申请(专利权)人: | 上海精测半导体技术有限公司 |
| 主分类号: | G06T7/00 | 分类号: | G06T7/00;G06T3/40;H01J37/22 |
| 代理公司: | 上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙) 31286 | 代理人: | 黄海霞 |
| 地址: | 201702 上海市青浦区*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 自动 聚焦 校正 优化 方法 带电 粒子束 设备 | ||
1.一种带电粒子束设备自动聚焦或像差校正的优化方法,其特征在于,包括:
建立关于设备参数的评价函数,以评价自动聚焦或像差校正时的图像质量;
建立用于评价第一算法的抗干扰性的判定条件,使用所述第一算法优化评价函数,并在符合所述判定条件时切换为使用第二算法优化评价函数,其中,所述第二算法的抗干扰性高于第一算法;
获得当所述评价函数形成极值使得图像质量最优时的设备参数。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述建立用于评价第一算法的抗干扰性的判定条件包括:
所述第一算法为逆二次插值法,获取所述逆二次插值法的三个输入参数a、b和c,其中,a<b<c;
建立至少一个关于两个所述输入参数的距离阈值公式和/或一个关于三个输入参数的斜率差阈值公式,以形成所述判定条件。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述距离阈值公式为以下公式中的一个或多个:
|b-a|≤ε1,|c-b|≤ε2,其中,ε1和ε2为预设的第一距离阈值和第二距离阈值。
4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述斜率阈值公式为:
其中,f为所述评价函数,δ为预设的斜率阈值。
5.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述第二算法为黄金分割法,所述第一算法和第二算法的迭代终止条件均包括:|x-b|≤ε3或者均包括达到最大迭代次数,其中,x为当前的设备参数,ε3为预设的第三距离阈值。
6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述获得当所述评价函数形成极值使得图像质量最优时的设备参数包括:
获得当所述评价函数形成极值时所对应的设备参数xt和所对应的输入参数bt;
将所述设备参数xt与所述输入参数bt的均值(xt+bt)/2作为使得图像质量最优时的设备参数。
7.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述第二算法为黄金分割法或二分法。
8.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述设备参数为带电粒子束聚焦的电流参数、带电粒子束聚焦的电压参数、水平方向像差校正参数、竖直方向像差校正参数中的至少一项。
9.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:
使用获得的所述设备参数获得带电粒子束设备的图像。
10.一种带电粒子束设备,其特征在于,被配置为执行根据权利要求1至9中任一项所述的方法。
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