[发明专利]镂空铜箔及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202111639758.6 申请日: 2021-12-29
公开(公告)号: CN114284369B 公开(公告)日: 2023-09-01
发明(设计)人: 高小君;张鹏 申请(专利权)人: 明冠新材料股份有限公司
主分类号: H01L31/0224 分类号: H01L31/0224;H01L31/18
代理公司: 苏州大成君合知识产权代理事务所(普通合伙) 32547 代理人: 张伯坤
地址: 336000 江西省宜*** 国省代码: 江西;36
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摘要: 发明的目的在于揭示一种镂空铜箔及其制备方法,开发具有一定厚度的镂空铜箔电极,以替代现有的银浆栅线电极,降低电极成本,镂空铜箔,铜箔厚度为25μm‑100μm,所述铜箔为镂空结构,所述铜箔作为硅片的电极,镂空铜箔的制备方法,包括以下步骤:将铜箔与聚丙烯薄膜进行复合,形成复合铜箔;对复合铜箔的铜箔面进行刻蚀形成镂空铜箔,与现有技术相比,本发明的有益效果是:铜的电阻率为1.75*10‑8Ω.m,而银的电阻率为1.65*10‑8Ω.m,以镂空铜箔替代现有的银浆栅线作为光伏电池片电极,降低电池片的电极材料成本,但因铜的电阻率与银的电阻率相对接近,对光伏电池片的光电性能影响在可接受范围内。
搜索关键词: 镂空 铜箔 及其 制备 方法
【主权项】:
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