[发明专利]一种底部抗反射涂层组合物及其制备方法在审
| 申请号： | 202111634798.1 | 申请日： | 2021-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN114415473A | 公开（公告）日： | 2022-04-29 |
| 发明（设计）人： | 顾大公;夏力;马潇;陈鹏;许从应;毛智彪 | 申请（专利权）人： | 宁波南大光电材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/09 | 分类号： | G03F7/09 |
| 代理公司： | 深圳盛德大业知识产权代理事务所(普通合伙) 44333 | 代理人： | 左光明 |
| 地址： | 315800 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种底部抗反射涂层组合物及其制备方法，该底部抗反射涂层组合物包括以下质量百分比的原料：含芳基的甘脲类低聚物溶液5‑15％、主体树脂0.5‑15％、交联剂0.1‑5％、热敏酸0.1‑1％，余量为有机溶剂；其中，所述主体树脂包括吸光官能团、交联官能团和辅助官能团。该底部抗反射涂层组合物，采用含特殊基团的甘脲类低聚物溶液的作为交联剂。通过改变含芳基的甘脲类低聚物中芳基比例，方便的调整n/k值，大大降低BARC产品在n/k值方面的调整难度，减少光刻胶底部界面出现反射和诸如驻波等问题，提高光刻工艺中线宽解析度，同时可方便的调整BARC产品的刻蚀速率，降低了产品的开发难度，优化其在刻蚀工艺时的性能，具有较大的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 底部 反射 涂层 组合 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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