[发明专利]一种底部抗反射涂层组合物及其制备方法

权利要求书

1.一种底部抗反射涂层组合物，其特征在于，包括以下质量百分比的原料：含芳基的甘脲类低聚物溶液5-15％、主体树脂0.5-15％、交联剂0.1-5％、热敏酸0.1-1％，余量为有机溶剂；

其中，所述主体树脂包括吸光官能团、交联官能团和辅助官能团，所述结构式为：

其中，所述主体树脂的分子量为4000-100000。

2.根据权利要求1所述的底部抗反射涂层组合物，其特征在于，所述吸光官能团、交联官能团和辅助官能团的数量比是10-50％：5-40％：10-85％。

3.根据权利要求1所述的底部抗反射涂层组合物，其特征在于，所述吸光官能团为含有苯环的官能团，即苯基、甲苯基、二甲苯基、氯苯基、氟苯基、联苯基及其它苯环数在20以内的取代芳基衍生物。

4.根据权利要求1所述的底部抗反射涂层组合物，其特征在于，所述交联官能团为含羟基的官能团，即甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、环己基、降冰片、金刚烷、立方烷及碳原子数在20以内的单羟基或多羟基烷基衍生物。

5.根据权利要求1所述的底部抗反射涂层组合物，其特征在于，所述辅助官能团为含酯基或/和刚性结构的官能团。

6.根据权利要求5所述的底部抗反射涂层组合物，其特征在于，所述含酯基或/和刚性结构的官能团为甲醇、乙醇、丙醇、丙二醇、环己醇、降冰片醇、金刚烷醇及碳原子数在20以内的酯类或/和刚性烷基衍生物。

7.根据权利要求1所述的底部抗反射涂层组合物，其特征在于，所述含芳基的甘脲类低聚物溶液包括：含芳基的甘脲类低聚物和稀释剂，所述含芳基的甘脲类低聚物的质量浓度为33-36％；

其中，所述含芳基的甘脲类低聚物的结构式为：

其中，R1由苯环数在20以内的芳基与碳原子数在20以内的烷基、烷氧基或两个甘脲分子偶联得到，R2、R3为氢、苯环数在20以内的芳基或碳原子数在20以内的烷基。

8.根据权利要求1所述的底部抗反射涂层组合物，其特征在于，所述稀释剂为甲醇、乙醇、异丙醇、丙二醇、丙二醇甲醚、丙二醇甲醚醋酸酯、乳酸乙酯、γ-丁内酯、四氢呋喃、甲基四氢呋喃、乙腈、N,N-二甲基甲酰胺中的一种或多种。

9.根据权利要求1所述的底部抗反射涂层组合物，其特征在于，所述热敏酸为苯磺酸、苯磺酸衍生物中的一种或多种；所述苯磺酸、所述苯磺酸衍生物为对甲苯磺酸、吡啶对甲苯磺酸、2、4、4、6-四溴环己二烯酮、苯偶因甲苯二烯酮、取代硝基苄基甲苯磺酸盐、烷基对甲苯苯磺酸铵盐中的一种或多种；或/和

所述有机溶剂为丙二醇甲醚醋酸酯、丙二醇单醋酸醚、丙二醇单乙醚、丙二醇甲醚醋酸酯、二缩乙二醇甲醚、二缩乙二醇乙醚、醋酸丁酯、醋酸新戊酯、乳酸乙酯、甲基乙基酮、环己酮、甲基异丁基酮、N-甲基吡咯烷酮、N、N-二甲基甲酰胺、N、N-二甲基乙酰胺和二甲亚砜中的一种或多种；或/和

所述交联剂为三聚氰胺树脂、氨基树脂、甘脲化合物、二环氧化物中的一种或多种。

10.一种底部抗反射涂层组合物的制备方法，其特征在于，包括：

将各原料按比例均匀混合并溶解后，过滤，得到如权利要求1-9所述的底部抗反射涂层组合物。