[发明专利]镀膜装置及载物机构有效
| 申请号： | 202111623488.X | 申请日： | 2021-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN114411114B | 公开（公告）日： | 2023-09-01 |
| 发明（设计）人： | 李振;陈昊;王荣;朱双双 | 申请（专利权）人： | 江苏微导纳米科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/24 | 分类号： | C23C16/24;C23C16/458;C23C16/50 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人： | 李申 |
| 地址： | 214000 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种镀膜装置及载物机构，该载物机构包括：载板，包括用于放置待镀膜产品的承载面；阻挡机构，位于所述载板周侧，且所述阻挡机构和所述载板之间具有间隙；在垂直于所述承载面的方向上，所述间隙具有预设深度；在平行于所述承载面的方向上，所述间隙具有预设宽度；调节组件，位于所述间隙内，用于调节所述间隙的所述预设深度和/或所述预设宽度；所述调节组件与所述载板和/或所述阻挡机构相连接。本申请实施方式提供的镀膜装置及载物机构，能够改善镀膜装置的反应腔内的流场分布，从而提高镀膜均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 镀膜 装置 机构 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
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