[发明专利]镀膜装置及载物机构有效
| 申请号: | 202111623488.X | 申请日: | 2021-12-28 |
| 公开(公告)号: | CN114411114B | 公开(公告)日: | 2023-09-01 |
| 发明(设计)人: | 李振;陈昊;王荣;朱双双 | 申请(专利权)人: | 江苏微导纳米科技股份有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/24 | 分类号: | C23C16/24;C23C16/458;C23C16/50 |
| 代理公司: | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 李申 |
| 地址: | 214000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 镀膜 装置 机构 | ||
1.一种载物机构,其特征在于,包括:
载板,包括用于放置待镀膜产品的承载面;
阻挡机构,位于所述载板周侧,且所述阻挡机构和所述载板之间具有间隙;在垂直于所述承载面的方向上,所述间隙具有预设深度;在平行于所述承载面的方向上,所述间隙具有预设宽度;
调节组件,位于所述间隙内,用于调节所述间隙的所述预设深度和所述预设宽度;所述调节组件与所述载板和/或所述阻挡机构相连接;
所述调节组件包括多个第二垫板,所述第二垫板与所述载板或所述阻挡机构相连接,所述第二垫板能使所述间隙的所述预设深度按预定规则变化;
在所述第二垫板与所述载板或所述阻挡机构的连接处的延伸方向上,所述第二垫板使所述间隙的所述预设深度先增大再减小。
2.根据权利要求1所述的载物机构,其特征在于,所述调节组件包括多个第一垫板,所述第一垫板与所述载板或所述阻挡机构相连接,所述第一垫板能使所述间隙的所述预设宽度按预定规则变化。
3.根据权利要求2所述的载物机构,其特征在于,在所述第一垫板与所述载板或所述阻挡机构的连接处的延伸方向上,所述第一垫板使所述间隙的所述预设宽度先减小再增大。
4.根据权利要求1所述的载物机构,其特征在于,所述调节组件面对所述间隙的一面为凸面。
5.根据权利要求2所述的载物机构,其特征在于,所述第一垫板与所述载板相连接,所述第一垫板远离所述载板的一侧为向远离所述载板的一侧弯曲的弧形壁面。
6.根据权利要求2所述的载物机构,其特征在于,所述第一垫板与所述阻挡机构相连接,所述第一垫板靠近所述载板的一侧为向靠近所述载板的一侧弯曲的弧形壁面。
7.根据权利要求5或6所述的载物机构,其特征在于,在所述弧形壁面与所述载板或所述阻挡机构的连接处的延伸方向上,所述弧形壁面的弧度变化率先减小再增大。
8.根据权利要求1所述的载物机构,其特征在于,至少部分所述第二垫板沿垂直于所述承载面的方向延伸,在所述第二垫板与所述载板或所述阻挡机构的连接处的延伸方向上,所述第二垫板沿垂直于所述承载面的方向延伸的厚度先增大再减小。
9.根据权利要求1所述的载物机构,其特征在于,所述承载面为多边形,所述阻挡机构包括多个挡板,所述挡板的数量等于所述承载面的边数。
10.一种镀膜装置,其特征在于,包括如权利要求1-9中任一项所述的载物机构。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





