[发明专利]氮化镓发光二极管的制备方法有效

专利信息
申请号: 202111543401.8 申请日: 2021-12-16
公开(公告)号: CN114141915B 公开(公告)日: 2023-09-01
发明(设计)人: 徐平;许孔祥;冯磊;黄胜蓝 申请(专利权)人: 湘能华磊光电股份有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L33/22;H01L33/06;H01L33/02;H01L33/32
代理公司: 长沙七源专利代理事务所(普通合伙) 43214 代理人: 张勇;刘伊旸
地址: 423038 湖*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明公开了一种氮化镓发光二极管的制备方法,涉及半导体领域,制备方法包括:提供蓝宝石衬底;对蓝宝石衬底进行常规清洗处理后在其上面沉积SiO2薄膜;在SiO2薄膜上表面制作圆形图案的光刻胶膜层;去除多余的SiO2膜层,在蓝宝石表面形成光刻胶和SiO2薄膜双掩膜结构的多个凹型坑;将表面形成有多个凹型坑的蓝宝石衬底进行干法刻蚀,并去除SiO2膜层,在蓝宝石衬底的表面形成多个V形孔;蒸镀Al单质薄膜,使Al膜完全填充V形孔;进行退火处理,使铝膜球聚形成铝球;生长氮化镓外延层,获得完全结构的外延片。上述制备方法能够提高GaN薄膜的晶体质量,降低位错密度,有效提高LED芯片的发光效率及发光强度。
搜索关键词: 氮化 发光二极管 制备 方法
【主权项】:
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