[发明专利]一种基于DMD的光刻机图形拼接误差的检测与修正方法在审
| 申请号： | 202111532272.2 | 申请日： | 2021-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN114488704A | 公开（公告）日： | 2022-05-13 |
| 发明（设计）人： | 廉治华;谢军;刘敏;樊廷慧;程卫涛 | 申请（专利权）人： | 惠州市金百泽电路科技有限公司;西安金百泽电路科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳市千纳专利代理有限公司 44218 | 代理人： | 袁燕清 |
| 地址： | 516081 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于DMD的光刻机图形拼接误差的检测与修正方法，包括线路图形设计；拼接重叠区域设定；拼接图形设计；线路图形曝光显影；拼接图形曝光显影；重合线条判断；DMD偏移位置判断；DMD位置补偿；上述检测与修正方法，将基准图形和偏移图形分别利用基准DMD和非基准DMD在透明片上的拼接重叠区域内进行曝光，判断非基准DMD曝光的偏移图形与基准DMD曝光的基准图形的重合线条，根据重合线条判断非基准DMD与基准DMD的位置是否有偏移，有偏移则根据线条预设间距值调整非基准DMD的位置，可节省测量时间，提高了检测效率，同时避免受测量仪器的误差影响，以及图形拼接误差测量不精准带来的干扰。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 dmd 光刻 图形 拼接 误差 检测 修正 方法 | ||
【主权项】：
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