[发明专利]评估晶片与静电吸盘之间的接触在审
| 申请号： | 202111493567.3 | 申请日： | 2021-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN114624272A | 公开（公告）日： | 2022-06-14 |
| 发明（设计）人： | A·浮士德;Y·巴松;G·埃坦;Y·大卫 | 申请（专利权）人： | 应用材料以色列公司 |
| 主分类号： | G01N23/2251 | 分类号： | G01N23/2251;G01N33/00;G01R29/24;H01L21/683 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 侯颖媖;张鑫 |
| 地址： | 以色列瑞*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种方法、非瞬态计算机可读介质和设备。该方法可包括：(a)引入在静电吸盘的负极的绝对值与静电吸盘的正极的绝对值之间的电压差，该引入在晶片由静电吸盘支撑并且被静电吸盘的一个或多个导电接触销接触时发生；(b)在开始电压差的引入之后的不同时间点处，由包括感测元件的静电传感器监测位于晶片的正面的测量点处的电荷，以提供监测结果；以及(c)基于监测结果来确定晶片与静电吸盘之间的接触的电参数。 | ||
| 搜索关键词： | 评估 晶片 静电 吸盘 之间 接触 | ||
【主权项】：
暂无信息
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