[发明专利]腔室监控系统及化学气相沉积设备在审

专利信息
申请号: 202111357149.1 申请日: 2021-11-16
公开(公告)号: CN116136020A 公开(公告)日: 2023-05-19
发明(设计)人: 陶珩;姜勇;龚岳俊;马诗阳 申请(专利权)人: 中微半导体设备(上海)股份有限公司
主分类号: C23C16/52 分类号: C23C16/52
代理公司: 上海元好知识产权代理有限公司 31323 代理人: 曹媛;张双红
地址: 201201 上海市浦东新*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种腔室监控系统,应用于化学气相沉积设备,所述化学气相沉积设备的反应腔的腔壁设有一探测通道,所述探测通道的顶端开有一连通所述反应腔内部的窗口;所述腔室监控系统包括:透明的石英管,其具有封闭的第一端和开放的第二端,所述第一端伸入所述探测通道,所述石英管的外侧壁与所述反应腔的腔壁之间形成密封;内窥镜,包括一摄像头,所述摄像头由所述第二端伸入所述石英管中并移动至所述窗口处,用于监控所述反应腔的内部。相应的,本发明还提供一种化学气相沉积设备,安装有上述的腔室监控系统。本发明能够反应腔室内部状态的实时监控,同时也能保证反应腔密封性,防止泄漏。
搜索关键词: 监控 系统 化学 沉积 设备
【主权项】:
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