[发明专利]腔室监控系统及化学气相沉积设备在审
申请号: | 202111357149.1 | 申请日: | 2021-11-16 |
公开(公告)号: | CN116136020A | 公开(公告)日: | 2023-05-19 |
发明(设计)人: | 陶珩;姜勇;龚岳俊;马诗阳 | 申请(专利权)人: | 中微半导体设备(上海)股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/52 | 分类号: | C23C16/52 |
代理公司: | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人: | 曹媛;张双红 |
地址: | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 监控 系统 化学 沉积 设备 | ||
1.一种腔室监控系统,其特征在于,应用于化学气相沉积设备,所述化学气相沉积设备的反应腔的腔壁设有一探测通道,所述探测通道的顶端开有一连通所述反应腔内部的窗口;
所述腔室监控系统包括:
透明的石英管,其具有封闭的第一端和开放的第二端,所述第一端伸入所述探测通道,所述石英管的外侧壁与所述反应腔的腔壁之间形成密封;
内窥镜,包括一摄像头,所述摄像头由所述第二端伸入所述石英管中并移动至所述窗口处,用于监控所述反应腔的内部。
2.如权利要求1所述的腔室监控系统,其特征在于,所述石英管由高纯度石英制成。
3.如权利要求1所述的腔室监控系统,其特征在于,所述第二端设有法兰盘,所述法兰盘位于所述反应腔的腔壁外部并与所述反应腔的腔壁之间形成密封。
4.如权利要求3所述的腔室监控系统,其特征在于,所述法兰盘与所述反应腔的腔壁之间通过O形密封圈实现密封。
5.如权利要求3所述的腔室监控系统,其特征在于,还包括一锁紧件,所述锁紧件将所述法兰盘与所述反应腔的腔壁锁紧。
6.如权利要求5所述的腔室监控系统,其特征在于,所述锁紧件与所述法兰盘之间设有垫片。
7.如权利要求6所述的腔室监控系统,其特征在于,所述垫片的材质为特氟龙。
8.如权利要求1所述的腔室监控系统,其特征在于,所述探测通道内嵌于所述反应腔的侧壁中。
9.如权利要求8所述的腔室监控系统,其特征在于,所述探测通道的轴线与所述反应腔内部的晶圆平行,所述摄像头的镜头朝向与所述探测通道的轴线平行。
10.如权利要求8所述的腔室监控系统,其特征在于,所述探测通道的轴线与所述反应腔内部的晶圆垂直,所述摄像头的镜头朝向与所述探测通道的轴线垂直。
11.如权利要求1所述的腔室监控系统,其特征在于,所述的内窥镜还包括至少一个照明灯,用于为所述摄像头提供光源。
12.如权利要求1所述的腔室监控系统,其特征在于,所述内窥镜还包括柔性光学管和显示装置,所述柔性光学管连接所述摄像头和所述显示装置,所述摄像头采集的信息经所述柔性光学管传输至所述显示装置进行显示。
13.一种化学气相沉积设备,其特征在于,所述化学气相沉积设备的反应腔的腔壁设有一探测通道,所述探测通道的顶端开有一连通所述反应腔内部的窗口,所述探测通道内安装有权利要求1~12任一项所述的腔室监控系统。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中微半导体设备(上海)股份有限公司,未经中微半导体设备(上海)股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111357149.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种超声成像设备及其超声检查方法
- 下一篇:AI信息的传输方法和设备
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的