[发明专利]辊到辊原子层沉积装置

摘要

本发明涉及一种辊到辊原子层沉积装置，更详细而言，涉及一种用于在柔性基板沉积原子层的原子层沉积装置。根据本发明的实施例的辊到辊原子层沉积装置包括：外壳，提供保持密闭状态的内部空间；基板移送组件，配备于外壳的内部空间，并包括多个辊单元；以及气体供应组件，在借由基板移送组件而移送的柔性的基板的一表面及另一表面沉积原子层，其中，气体供应组件包括：上部气体供应模块，与基板的一表面面对；下部气体供应模块，与上部气体供应模块将基板置于之间而隔开并与基板的另一表面面对，上部气体供应模块及下部气体供应模块包括沿着基板的移送方向而布置的至少一个吹扫气体供应单元、至少一个反应气体供应单元及至少一个源气体供应单元。