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[发明专利]原子层沉积装置及利用其的原子层沉积方法-CN201880096524.1有效
发明人：崔鹤永;金栋元;金相勋;金根植 -专利权人： 株式会社奈瑟斯比
申请日： 2018-11-27 - 公布日： 2023-06-09 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明涉及一种原子层沉积装置及利用其的原子层沉积方法。根据本发明的用于在基板形成原子层的原子层沉积装置包括：基板移送部，用于安置基板，并向第一方向及与所述第一方向不同的第二方向移送所述基板；气体供应部，布置于通过所述基板移送部而移送的所述基板的上方，并且包括供应源气体的源气体供应模块、供应反应气体的反应气体供应模块、布置于所述源气体供应模块与所述反应气体供应模块之间的吹扫气体供应模块；以及气体供应管部，包括连接所述源气体供应模块和源气体供应源的源气体供应管、连接所述反应气体供应模块和反应气体供应源的反应气体供应管，其中，所述源气体供应模块及所述反应气体供应模块中的至少一个能够根据所述基板移送部的基板移送方向而改变对基板的气体供应方向。
原子沉积装置利用方法

[发明专利]辊到辊原子层沉积装置-CN202111253324.2在审
发明人：崔鹤永;金栋元;金相勳;金根植 -专利权人： 株式会社奈瑟斯比
申请日： 2021-10-27 - 公布日： 2022-08-16 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明涉及一种辊到辊原子层沉积装置，更详细而言，涉及一种用于在柔性基板沉积原子层的原子层沉积装置。根据本发明的实施例的辊到辊原子层沉积装置包括：外壳，提供保持密闭状态的内部空间；基板移送组件，配备于外壳的内部空间，并包括多个辊单元；以及气体供应组件，在借由基板移送组件而移送的柔性的基板的一表面及另一表面沉积原子层，其中，气体供应组件包括：上部气体供应模块，与基板的一表面面对；下部气体供应模块，与上部气体供应模块将基板置于之间而隔开并与基板的另一表面面对，上部气体供应模块及下部气体供应模块包括沿着基板的移送方向而布置的至少一个吹扫气体供应单元、至少一个反应气体供应单元及至少一个源气体供应单元。
辊到辊原子沉积装置