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[发明专利]原子层沉积装置及利用其的原子层沉积方法-CN201880096524.1有效
发明人： 崔鹤永;金栋元;金相勋;金根植 -专利权人：株式会社奈瑟斯比
申请日： 2018-11-27 - 公布日： 2023-06-09 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明涉及一种原子层沉积装置及利用其的原子层沉积方法。根据本发明的用于在基板形成原子层的原子层沉积装置包括：基板移送部，用于安置基板，并向第一方向及与所述第一方向不同的第二方向移送所述基板；气体供应部，布置于通过所述基板移送部而移送的所述基板的上方，并且包括供应源气体的源气体供应模块、供应反应气体的反应气体供应模块、布置于所述源气体供应模块与所述反应气体供应模块之间的吹扫气体供应模块；以及气体供应管部，包括连接所述源气体供应模块和源气体供应源的源气体供应管、连接所述反应气体供应模块和反应气体供应源的反应气体供应管，其中，所述源气体供应模块及所述反应气体供应模块中的至少一个能够根据所述基板移送部的基板移送方向而改变对基板的气体供应方向。
原子沉积装置利用方法

[发明专利]辊到辊原子层沉积装置-CN202111253324.2在审
发明人： 崔鹤永;金栋元;金相勳;金根植 -专利权人：株式会社奈瑟斯比
申请日： 2021-10-27 - 公布日： 2022-08-16 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明涉及一种辊到辊原子层沉积装置，更详细而言，涉及一种用于在柔性基板沉积原子层的原子层沉积装置。根据本发明的实施例的辊到辊原子层沉积装置包括：外壳，提供保持密闭状态的内部空间；基板移送组件，配备于外壳的内部空间，并包括多个辊单元；以及气体供应组件，在借由基板移送组件而移送的柔性的基板的一表面及另一表面沉积原子层，其中，气体供应组件包括：上部气体供应模块，与基板的一表面面对；下部气体供应模块，与上部气体供应模块将基板置于之间而隔开并与基板的另一表面面对，上部气体供应模块及下部气体供应模块包括沿着基板的移送方向而布置的至少一个吹扫气体供应单元、至少一个反应气体供应单元及至少一个源气体供应单元。
辊到辊原子沉积装置

[发明专利]原子层沉积装置-CN201310683377.7在审
发明人：全蓥卓;崔鹤永 -专利权人：丽佳达普株式会社
申请日： 2013-12-12 - 公布日： 2014-06-18 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明涉及一种原子层沉积装置，其包括：腔室，在内部形成封闭的反应空间；第一气体吸排单元，对被供应至所述腔室内部的基板，供给或排出第一气体；以及第二气体吸排单元，对所述基板供给第二气体或排出第二气体；所述基板沿着与所述第一气体吸排单元或者所述第二气体吸排单元中的至少一个气体吸排单元的长度方向交叉的方向进行相对移动。如上所述，通过一个单元即可完成气体的排出和吸入工作，因此无需另行具备排出或吸入气体的单元，能够改善原子层沉积工艺的生产率。
原子沉积装置

[发明专利]原子层沉积装置-CN201310681168.9无效
发明人：全蓥卓;崔鹤永 -专利权人：丽佳达普株式会社
申请日： 2013-12-12 - 公布日： 2014-06-18 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明的原子层沉积装置，包括：气体吸排单元，该气体吸排单元具备：供气管，在内部形成有供气流道；排气管：在内部形成有与所述供气流道连通的压力缓和部；吸气管，其围绕所述排气管的外周面的至少一部分，从而在内部形成吸气流道；以及气体喷射压调节单元，连接在所述供气流道或所述压力缓和部上供应气体，使从所述排气管排出的气体的喷射压力在所述排气管的整个长度上相同。
原子沉积装置

[发明专利]原子层沉积装置-CN201310681160.2无效
发明人：全蓥卓;崔鹤永 -专利权人：丽佳达普株式会社
申请日： 2013-12-12 - 公布日： 2014-06-18 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本发明涉及的原子层沉积装置，包括：腔室，在内部形成有密闭的反应空间；第一气体吸排单元，向设置于所述腔室内部的基板吸入或排出第一气体；第二气体吸排单元，向所述基板吸入或排出第二气体；以及真空排气管，设置于所述第一气体吸排单元和所述第二气体吸排单元之间，用于在所述第一气体吸排单元和所述第二气体吸排单元之间形成真空；所述基板沿着与所述第一气体吸排单元、所述第二气体吸排单元或所述真空排气管中至少一个的长度方向交叉的方向进行相对运动。通过单个单元进行气体的排出和吸入，因此不必具备用于排出或吸入气体的单独的单元，能够改善原子层沉积工艺的生产能力。
原子沉积装置

[发明专利]气体吸排单元及具备该气体吸排单元的原子层沉积装置-CN201310394826.6在审
发明人：全蓥卓;崔鹤永;朴炷泫;申锡润;咸基热 -专利权人：丽佳达普株式会社
申请日： 2013-09-03 - 公布日： 2014-03-26 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明涉及气体吸排单元及具备该气体吸排单元的原子层沉积装置。气体吸排单元可以包括：内部形成有供气流道的供气管；在内部形成与所述供气流道连通的排气流道的排气管；围绕所述排气管的外周面的至少一部分，从而在内部形成吸气流道的吸气管。因此，当配置在与基板临近的位置时，能够同时完成对气体的供给和吸入。由此，可在常压下形成沉积，因此不需要用于确保真空的其他装置以及时间。而且，可进行连续性工序，可将前后处理进行在一条线上，并且通过设置多个源气体吸排单元，可形成多组分化合物。此时，可根据各个源气体的分解温度分别选择热源种类以及被供应的热能量。
气体单元具备原子沉积装置

[发明专利]原子层沉积装置-CN201310395120.1在审
发明人：全蓥卓;崔鹤永;申锡润;朴炷泫;咸基热 -专利权人：丽佳达普株式会社
申请日： 2013-09-03 - 公布日： 2014-03-26 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本发明的原子层沉积装置，包括供气管和吸气管，该供气管具备：供给管体，在其内部沿长度方向形成有供给气体的供气流道；排气部，沿供给管体的长度方向形成于供给管体，并与供气流道连通；该吸气管具备：吸入管体，在其内部沿长度方向形成有吸入气体的吸气流道；吸气部，沿吸入管体的长度方向形成于吸入管体，并与吸气流道连通；供气管和吸气管可以在与基板对供气管和吸气管的相对运动方向交叉的方向上彼此分开形成。本发明一实施例中的原子层沉积装置，分开形成用于供给源气体或反应气体的供给管和用于吸入除去残留气体的吸气管，从而不仅能够减少气体使用量，减少沉积原子层的基板轨迹，还能够简化实现气体供给及吸入动作的机械结构。
原子沉积装置