[发明专利]一种半导体清洗后的废气酸碱中和处理装置有效
| 申请号： | 202111205071.1 | 申请日： | 2021-10-15 |
| 公开（公告）号： | CN113634095B | 公开（公告）日： | 2021-12-31 |
| 发明（设计）人： | 华斌;李文轩 | 申请（专利权）人： | 智程半导体设备科技（昆山）有限公司 |
| 主分类号： | B01D53/40 | 分类号： | B01D53/40;B01D53/78 |
| 代理公司： | 北京市浩东律师事务所 11499 | 代理人： | 孙莉 |
| 地址： | 215316 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种半导体清洗后的废气酸碱中和处理装置，用以对半导体清洗后挥发的废气进行处理；包括外壳体，上方安装有储放箱，且所述储放箱的上侧连接有输料口；排气通道，安装在所述外壳体的左侧，且所述外壳体和所述排气通道的连接处开设有通孔，并且所述通孔位于所述外壳体和所述排气通道连接处的下方；出风口，连通在所述排气通道的左上方，且所述排气通道的左下方连通有排液口。该半导体清洗后的废气酸碱中和处理装置，只需要一个驱动源便可控制内筒围绕主管转动，节能型高，便捷性高，且可同步的驱动转杆控制外侧安装的搅拌叶转动，对内筒内的废气和中和药剂进行翻转混合，使得废气和中和药剂充分接触，加快中和效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 半导体 清洗 废气 酸碱 中和 处理 装置 | ||
【主权项】：
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