[发明专利]一种半导体清洗后的废气酸碱中和处理装置

权利要求书

1.一种半导体清洗后的废气酸碱中和处理装置，用以对半导体清洗后挥发的废气进行处理，

包括外壳体，上方安装有储放箱，且所述储放箱的上侧连接有输料口；

排气通道，安装在所述外壳体的左侧，且所述外壳体和所述排气通道的连接处开设有通孔，并且所述通孔位于所述外壳体和所述排气通道连接处的下方；

出风口，连通在所述排气通道的左上方，且所述排气通道的左下方连通有排液口；

其特征在于：还包括：

下料口，开设在所述储放箱下侧的中部，且所述下料口的内侧贴合设置有挡块，并且所述挡块的前侧连接有安装架，所述安装架通过第一弹簧与所述储放箱弹性连接，且所述安装架的下端连接与第一磁铁；

主管，利用轴承转动连接在所述外壳体的内部，且所述主管的外侧连通有连接管，并且所述连接管远离所述主管的一端连通有内筒；

全齿轮，键连接在所述主管后端的外侧，且所述全齿轮的上方啮合连接有半齿轮，并且所述半齿轮的内侧键连接有转轴，所述转轴的后端与电机的输出端连接，且所述电机螺栓固定在所述外壳体的后上方；

输气管，转动连接在所述主管的后端，且所述输气管与所述输气管的内部相通；

固定环，安装在所述外壳体内部的后侧，且所述固定环的内侧连接有齿块；

第四磁铁，安装在所述外壳体内部的前侧；

所述内筒上设置有转杆、进料口和第三磁铁：

转杆，利用轴承转动连接在所述内筒的内部，且所述转杆的外侧等角度的安装有搅拌叶，并且所述转杆的后端键连接有调节齿轮；

进料口，开设在所述内筒远离所述连接管的一侧，且所述进料口的内部滑动连接有密封板，并且所述密封板通过第二弹簧与所述内筒弹性连接；

所述密封板的前端安装有连接杆，且所述连接杆的前端安装有第二磁铁，并且所述连接杆滑动连接在调节槽的内侧，所述调节槽开设在所述内筒侧壁的内部；

第三磁铁，安装在所述内筒远离所述连接管的一侧；

侧剖面为“7”字形结构的所述安装架与所述储放箱为上下滑动连接，且所述安装架下端安装的所述第一磁铁的位置与所述第三磁铁的位置相互对应；

所述内筒关于所述主管的横向中心线等角度分布，且上方位置的所述内筒开设的所述进料口的位置与所述下料口的位置相互对应，并且所述下料口的内径小于所述进料口的内径；

所述齿块等角度的分布在所述固定环和所述调节齿轮的连接处，且所述调节齿轮和所述搅拌叶为同轴连接；

所述第四磁铁关于所述主管的横向中心线对称设置，且所述第四磁铁的位置与所述第二磁铁的位置相互对应设置。

2.根据权利要求1所述的一种半导体清洗后的废气酸碱中和处理装置，其特征在于：侧壁相互平行分布的所述下料口和所述挡块的相对面均为倾斜状结构，且所述挡块的外径从上至下依次减小。

3.根据权利要求1所述的一种半导体清洗后的废气酸碱中和处理装置，其特征在于：位于同一竖直平面内的所述全齿轮的外径与所述半齿轮的外径相同，且所述全齿轮的齿数是所述半齿轮齿数的四倍。

4.根据权利要求1所述的一种半导体清洗后的废气酸碱中和处理装置，其特征在于：所述储放箱内部的底侧面为倾斜状结构，且所述储放箱的最低点与所述下料口的最高点相互重合。