[发明专利]一种APCVD沉积过程颗粒物控制系统及其控制方法

摘要

本发明公开了一种APCVD沉积过程颗粒物控制系统及其控制方法，涉及常压化学沉积技术领域，包括反应管、第一气罐、第二气罐以及第三气罐，滑块滑动同时为调节叶片提供摆动的动力，使通过的气流不断改变通过的路径，从而达到气流均匀分散的目的，因此，在气流与反应物反应后产生的过程产物颗粒能够均匀分散，调节组件使用时，流动的气流能够带动风扇转动，无需外置动力驱动即可为调节叶片提供摆动的动力，从而节省了能源的消耗，调节叶片能够通过第二转动轴转动一定角度，因此，相邻调节叶片之间能够形成一定大小的缝隙，通过调节缝隙的大小进而能够控制通过的反应气流量，从而适用于不同反应气体流量的APCVD系统。