[发明专利]原子层沉积装置有效
| 申请号: | 202111067752.6 | 申请日: | 2021-09-13 | 
| 公开(公告)号: | CN113774358B | 公开(公告)日: | 2022-09-06 | 
| 发明(设计)人: | 陈蓉;弋戈;刘潇;邵华晨;向俊任;李嘉伟 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 | 
| 主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/20;C23C16/44 | 
| 代理公司: | 华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 马梓洋 | 
| 地址: | 430070 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 | 
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| 摘要: | 本发明涉及一种原子层沉积装置,包括:反应容器,反应容器的内部形成反应腔体;进气组件,进气组件包括进气件,进气件与反应容器连接,进气件上设置有能够与反应腔体连通的进气口;出料组件,出料组件包括出料塞与出料管,出料管与反应容器连接,出料塞设置于出料管的内部,出料塞位于与反应腔体连通的出料口的下方,出料塞与出料管之间形成供粉料流出的出料通道;驱动件,驱动件与出料塞连接,驱动件用于驱动出料塞沿竖直方向移动,以使出料塞与出料口接触或分离。该原子层沉积装置中通过出料组件实现出料口的打开与封堵,出料口处不易出现堵塞,出料较为顺畅。 | ||
| 搜索关键词: | 原子 沉积 装置 | ||
【主权项】:
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                    C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
                
            C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





