[发明专利]薄膜晶体管、其制作方法及显示面板有效
申请号: | 202110966612.6 | 申请日: | 2021-08-23 |
公开(公告)号: | CN113745342B | 公开(公告)日: | 2023-09-26 |
发明(设计)人: | 杨树圳 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L29/786 | 分类号: | H01L29/786;H01L21/34 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 马广旭 |
地址: | 518132 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及一种薄膜晶体管、其制作方法及显示面板。所述薄膜晶体管中通过漏极与有源层的肖特基接触,增大该区域的电阻,从而抑制电流逆向从漏极经过金属层、有源层传输至源极,而当阈值电压为负时,由于肖特基接触的存在,可以抑制、减小源极通过有源层流向漏极的漏电流,提升薄膜晶体管的电学稳定性,能够更长时间地稳定工作。 | ||
搜索关键词: | 薄膜晶体管 制作方法 显示 面板 | ||
【主权项】:
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