[发明专利]一种Ge长波红外太赫兹探测器阵列和制备方法在审

专利信息
申请号: 202110930315.6 申请日: 2021-08-13
公开(公告)号: CN113725243A 公开(公告)日: 2021-11-30
发明(设计)人: 邓惠勇;汪越;刘赤县;窦伟;单玉凤;殷子薇;戴宁 申请(专利权)人: 中国科学院上海技术物理研究所
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;G01J5/20
代理公司: 上海沪慧律师事务所 31311 代理人: 郭英
地址: 200083 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种Ge长波红外太赫兹探测器阵列和制备方法,该探测器阵列包括吸收区阵列和共用电极二个部分,吸收区阵列像元由吸收层、石墨烯/金属电极层组成,共用电极由背接触电极和正面刻蚀重掺杂电极层组成,其中背接触电极表面覆盖钝化层,制备方法包括四个步骤,依次是通过光刻和气相沉积技术在Ge晶片正面形成吸收层和石墨烯层;通过光刻、刻蚀和离子注入技术形成正面刻蚀重掺杂电极层;通过光刻和热蒸发技术形成正面金属电极层;通过减薄、离子注入和气相沉积技术形成背接触电极和钝化层。本发明的优点是:离子注入技术形成吸收层解决了台阶型探测器像元高纯Ge外延层制备困难的难题,并且与当前的半导体工艺技术相兼容。
搜索关键词: 一种 ge 长波 红外 赫兹 探测器 阵列 制备 方法
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