[发明专利]半导体衬底的原子台阶宽度计算装置、方法、设备及介质在审
| 申请号： | 202110896169.X | 申请日： | 2021-08-05 |
| 公开（公告）号： | CN113592937A | 公开（公告）日： | 2021-11-02 |
| 发明（设计）人： | 张九阳;舒天宇;卢仁贵;王永方;李霞;张红岩;高超;梁云硕;张禹亮 | 申请（专利权）人： | 上海天岳半导体材料有限公司 |
| 主分类号： | G06T7/60 | 分类号： | G06T7/60;G06T7/13;G01Q60/24 |
| 代理公司： | 北京君慧知识产权代理事务所(普通合伙) 11716 | 代理人： | 董延丽 |
| 地址： | 201306 上海市浦东新区中国（上海）*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本说明书实施例公开了半导体衬底的原子台阶宽度计算装置、方法、设备及介质，半导体衬底存在一个或多个原子台阶均匀平行分布的区域，并且每个原子台阶处于倾斜状态，原子台阶的宽度为相邻两个原子台阶之间的距离，包括：图像获取单元，用于确定半导体衬底的测试范围，获取测试范围内的半导体衬底对应的原子台阶原始图像；图像处理单元，用于对原子台阶原始图像进行灰度处理，确定原子台阶灰度图像；计算单元，用于根据原子台阶灰度图像中相邻两个原子台阶之间的距离与原子台阶灰度图像的尺寸，计算原子台阶的宽度，节省了人工测算的人力、物力，避免了人工计算宽度产生的测量误差，可以通过程序实现，不会引入人工测算主观误差。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 衬底 原子 台阶 宽度 计算 装置 方法 设备 介质 | ||
【主权项】：
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