[发明专利]一种组合物、剥离液及其在剥离光刻胶或光刻胶残余物中的应用和剥离方法有效

专利信息
申请号: 202110873777.9 申请日: 2021-07-30
公开(公告)号: CN113589662B 公开(公告)日: 2022-07-12
发明(设计)人: 侯军;任浩楠 申请(专利权)人: 浙江奥首材料科技有限公司
主分类号: G03F7/42 分类号: G03F7/42
代理公司: 北京元周律知识产权代理有限公司 11540 代理人: 毛薇
地址: 324012*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种组合物、及其剥离液和在其在剥离光刻胶或光刻胶残余物中的应用和剥离方法,组合物包含水溶性非质子极性有机溶剂、有机胺化合物、缓蚀剂、二醇醚化合物和润湿剂;缓蚀剂含有式I所示化合物中的至少一种和式II所示化合物中的至少一种;R1、R2独立地选自有机供电子基团、H中的任一种;R1与R2不同时为H;R3、R4独立地选自有机吸电子基团、H中的任一种;R3与R4不同时为H;有机供电子基团选自苯基、羟基、氨基、甲氧基或C1‑5烷基;所述有机吸电子基团选自乙酰基、乙酰胺基、氰基、C1‑3羧基、C1‑3羧酸酯基或硝基。剥离液在有效去除光刻胶的基础上,对金属电极特别是Cu有很好的保护效果,能够抑制其氧化和腐蚀。
搜索关键词: 一种 组合 剥离 及其 光刻 残余物 中的 应用 方法
【主权项】:
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