[发明专利]一种三维半导体器件、芯片及三维半导体器件的制备方法在审

专利信息
申请号: 202110826828.2 申请日: 2021-07-21
公开(公告)号: CN113555353A 公开(公告)日: 2021-10-26
发明(设计)人: 刘琦;汪泳州;吴祖恒;时拓;刘宇;张培文;刘明 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: H01L27/01 分类号: H01L27/01;H01L21/70;G06N3/063
代理公司: 北京知迪知识产权代理有限公司 11628 代理人: 夏萌;王胜利
地址: 100020 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开一种三维半导体器件、芯片及三维半导体器件的制备方法,涉及半导体技术领域,用于在信息处理过程中,实现一次性对信号进行多级处理。所述三维半导体器件,包括:衬底及由下至上依次形成在衬底上的滤波结构、卷积结构及脉冲输出结构。滤波结构包括的第一介质层的材料为具备短时程记忆特性的材料。卷积结构包括的第二介质层的材料为具备长时程记忆特性的材料。脉冲输出结构包括的第三介质层的材料为具备阈值转变特性的材料。所述芯片包括上述三维半导体器件。所述三维半导体器件的制备方法用于制造上述三维半导体器件。
搜索关键词: 一种 三维 半导体器件 芯片 制备 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院微电子研究所,未经中国科学院微电子研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110826828.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top