[发明专利]一种新型双台面碳化硅SACM单光子探测器及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202110794990.0 申请日: 2021-07-14
公开(公告)号: CN113594275A 公开(公告)日: 2021-11-02
发明(设计)人: 苏琳琳;杨成东;赵东;李晖;郭业才 申请(专利权)人: 南京信息工程大学滨江学院
主分类号: H01L31/0312 分类号: H01L31/0312;H01L31/0352;H01L31/107;H01L31/18
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 沈丹
地址: 214105 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种新型双台面碳化硅SACM单光子探测器及其制备方法,该单光子探测器制备于n型SiC衬底上,采用n+/n‑/n/n‑/p结构或p+/p‑/p/p‑/n结构;所述单光子探测器从顶部至雪崩层的上表面刻蚀有小角度倾斜台面,小角度倾斜台面的底角小于10°,且小角度倾斜台面采用半台面结构;所述小角度倾斜台面的下台面至底部接触层刻蚀有垂直台面,形成深槽隔离;所述垂直台面的直径大于小角度倾斜台面下台面的直径。本发明能够提高器件填充因子和芯片利用率,优化SiC SACMAPD的有效光敏区域;通过垂直台面刻蚀实现相邻器件之间的电学隔离和光学隔离。
搜索关键词: 一种 新型 台面 碳化硅 sacm 光子 探测器 及其 制备 方法
【主权项】:
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