[发明专利]一种铼-钨复合坩埚及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202110771701.5 申请日: 2021-07-08
公开(公告)号: CN113512714A 公开(公告)日: 2021-10-19
发明(设计)人: 胡昌义;魏燕;蔡宏中;胡晋铨;王献;郭俊梅;张诩翔;周利民;陈力;闻名;张贵学;汪星强;李艳琼 申请(专利权)人: 贵研铂业股份有限公司
主分类号: C23C16/14 分类号: C23C16/14;C23C16/448;C30B35/00;C30B29/16
代理公司: 北京高沃律师事务所 11569 代理人: 赵琪
地址: 650156 云南省昆*** 国省代码: 云南;53
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摘要: 发明提供了一种铼‑钨复合坩埚及其制备方法和应用,属于金属材料制备技术领域。本发明的铼‑钨复合坩埚包括基体钨坩埚以及铼层,所述铼层位于所述基体钨坩埚的内表面。本发明将难熔金属钨和铼的优点结合起来,创新设计并制备铼‑钨复合坩埚,可大幅降低坩埚的成本;本发明采用CVD法制备复合坩埚内部的铼层,且铼层与氧化物熔体直接接触,在提高坩埚材料的致密度和纯度的同时,还能保证所制备激光晶体的高品质,所发明的铼/钨复合坩埚主要用于难熔金属氧化物,如稀土氧化物、碱土金属氧化物等高熔点晶体的生长。
搜索关键词: 一种 复合 坩埚 及其 制备 方法
【主权项】:
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