[发明专利]一种铼-钨复合坩埚及其制备方法在审
申请号: | 202110771701.5 | 申请日: | 2021-07-08 |
公开(公告)号: | CN113512714A | 公开(公告)日: | 2021-10-19 |
发明(设计)人: | 胡昌义;魏燕;蔡宏中;胡晋铨;王献;郭俊梅;张诩翔;周利民;陈力;闻名;张贵学;汪星强;李艳琼 | 申请(专利权)人: | 贵研铂业股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/14 | 分类号: | C23C16/14;C23C16/448;C30B35/00;C30B29/16 |
代理公司: | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人: | 赵琪 |
地址: | 650156 云南省昆*** | 国省代码: | 云南;53 |
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摘要: | 本发明提供了一种铼‑钨复合坩埚及其制备方法和应用,属于金属材料制备技术领域。本发明的铼‑钨复合坩埚包括基体钨坩埚以及铼层,所述铼层位于所述基体钨坩埚的内表面。本发明将难熔金属钨和铼的优点结合起来,创新设计并制备铼‑钨复合坩埚,可大幅降低坩埚的成本;本发明采用CVD法制备复合坩埚内部的铼层,且铼层与氧化物熔体直接接触,在提高坩埚材料的致密度和纯度的同时,还能保证所制备激光晶体的高品质,所发明的铼/钨复合坩埚主要用于难熔金属氧化物,如稀土氧化物、碱土金属氧化物等高熔点晶体的生长。 | ||
搜索关键词: | 一种 复合 坩埚 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的