[发明专利]用于半导体裸片边缘防护和半导体裸片分离的方法在审

专利信息
申请号: 202110766498.2 申请日: 2021-07-07
公开(公告)号: CN113921467A 公开(公告)日: 2022-01-11
发明(设计)人: B·P·沃兹;A·M·贝利斯 申请(专利权)人: 美光科技公司
主分类号: H01L21/78 分类号: H01L21/78;H01L21/683;H01L21/768
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 王龙
地址: 美国爱*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本申请案涉及一种用于半导体裸片边缘防护及半导体裸片分离的方法。此外,经公开方法提供在不使用切割技术的情况下使所述半导体裸片分离。在一个实施例中,多个沟槽可形成于包含多个半导体裸片的衬底的前侧上。个别沟槽可对应于所述衬底的划线,其中每一沟槽包含大于所述半导体裸片的最终厚度的深度。在用粘合材料填充所述沟槽之前,介电层可形成于所述沟槽的侧壁上,进而保护所述半导体裸片的所述边缘。随后,可从后侧薄化所述衬底,使得可从所述后侧暴露所述沟槽中的所述粘合材料。可去除所述粘合材料,以分割来自所述衬底的所述多个半导体裸片中的个别半导体裸片。
搜索关键词: 用于 半导体 边缘 防护 分离 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于美光科技公司,未经美光科技公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110766498.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top