[发明专利]一种半导体环保清洗剂的制备方法在审
| 申请号： | 202110759776.1 | 申请日： | 2021-07-05 |
| 公开（公告）号： | CN113416616A | 公开（公告）日： | 2021-09-21 |
| 发明（设计）人： | 杨柳;张高杰;李振飞 | 申请（专利权）人： | 东莞市柯林奥环保科技有限公司 |
| 主分类号： | C11D7/32 | 分类号： | C11D7/32;C11D7/26;C11D7/12;C11D7/14;C11D7/06;C11D7/20;C11D7/36;C11D7/60 |
| 代理公司： | 绍兴上虞鸿鸣知识产权代理事务所(普通合伙) 33363 | 代理人： | 周佳磊 |
| 地址： | 523000 广东省东莞市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种半导体环保清洗剂的制备方法，半导体环保清洗剂包括络合剂、酸度调节剂、软化剂、有机碱、无机碱和纯水，其具体制备方法包括备料预处理、初步混合、进一步混料、最终混合配料、成品预处理和分装以上的步骤，本发明改善了传统半导体材料清洗的问题，降低了CMP后衬底晶片的表面Particle数量；对终检的无尘室晶片最终清洗影响显著，提高了晶片的通过率；本发明整道清洗制程后，对比现行的清洗效果有显著的提升，送入无尘室进行最终清洗，晶片的通过率相对原工艺提升10％～15％；整体性能良好、使用环保安全，并能降低SIC衬底晶片的颗粒污染，清洗效率高，提高了SIC衬底晶片的加工效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 半导体 环保 洗剂 制备 方法 | ||
【主权项】：
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