[发明专利]一种光刻胶组合物有效
| 申请号： | 202110731453.1 | 申请日： | 2021-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN113419404B | 公开（公告）日： | 2023-04-18 |
| 发明（设计）人： | 马洁;李冰;孙嘉;郑金红;陈昕;王文芳;董栋;张宁 | 申请（专利权）人： | 北京科华微电子材料有限公司;北京科华丰园微电子科技有限公司;上海彤程电子材料有限公司;彤程新材料集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;G03F7/004 |
| 代理公司： | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人： | 王丽莎 |
| 地址： | 101312 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请提供一种光刻胶组合物，属于光刻技术领域。光刻胶组合物包括：100重量份化学放大正性光刻胶基体树脂、0.2～30重量份光致产酸剂和0.01～5重量份碱性添加剂。光致产酸剂包括三嗪类化合物，碱性添加剂包括含有氧原子的胺类化合物。本申请将三嗪类光致产酸剂与含有氧原子的胺类化合物配合，能够使得化学放大正性光刻胶的加工窗口DOF显著提升。同时，三嗪类光致产酸剂与含有氧原子的胺类化合物配合还能够改善光刻胶的顶部形貌，降低顶部损失，降低粗糙度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 组合 | ||
【主权项】：
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