[发明专利]一种光刻胶组合物

说明书

本申请提供一种光刻胶组合物，属于光刻技术领域。光刻胶组合物包括：100重量份化学放大正性光刻胶基体树脂、0.2～30重量份光致产酸剂和0.01～5重量份碱性添加剂。光致产酸剂包括三嗪类化合物，碱性添加剂包括含有氧原子的胺类化合物。本申请将三嗪类光致产酸剂与含有氧原子的胺类化合物配合，能够使得化学放大正性光刻胶的加工窗口DOF显著提升。同时，三嗪类光致产酸剂与含有氧原子的胺类化合物配合还能够改善光刻胶的顶部形貌，降低顶部损失，降低粗糙度。

技术领域

本申请涉及光刻技术领域，具体而言，涉及一种光刻胶组合物。

背景技术

从化学成分角度而言，光刻胶是一种混合物，以KrF化学放大正性光刻胶为例，它的组分包括树脂、产酸剂、碱、其他助剂以及溶剂。光刻胶中的产酸剂经过KrF曝光后，产生H⁺，H⁺催化带有保护基团的聚对羟基苯乙烯树脂发生脱保护反应，使得树脂在显影液中的溶解速率大大提高，曝光区与未曝光区的光刻胶在显影液中的溶解度有很大的不同，利用这一特性，形成图形。

为了生产综合性能优良的光刻胶，开发出了大量不同结构的光致产酸剂与碱性化合物，不同的产酸剂与碱性化合物分别在不同角度及不同程度上优化着光刻胶的性能。如专利号为ZL201080035613.9的发明专利公开了一种具有特定结构的芳香族锍盐化合物类的光致产酸剂，使用了该种产酸剂的光刻胶在作细微的图案时，可以充分显影。专利号为ZL200910140187.4公开了一种含有羧基的碱性化合物，使用了该种碱性化合物的光刻胶，其分辨率以及光刻后的形貌都得到了显著优化。但是这些光致产酸剂与碱性化合物在光刻胶组合物的基础配方中使用时，其对工艺窗口，尤其是聚焦深度(DOF)的优化能力有限。

因此，依托于现有的光刻胶组分材料，有必要开发一款光刻胶组合物的配方，使得最终光刻胶产品的工艺窗口有显著提高，尤其是聚焦深度的提高。

发明内容

本申请提供了一种光刻胶组合物，其加工窗口DOF较好。

本申请的实施例是这样实现的：

在第一方面，本申请示例提供了一种光刻胶组合物，其包括：100重量份化学放大正性光刻胶基体树脂、0.2～30重量份光致产酸剂和0.01～5重量份碱性添加剂。

其中，光致产酸剂包括三嗪类化合物，碱性添加剂包括含有氧原子的胺类化合物。

在上述技术方案中，将三嗪类光致产酸剂与含有氧原子的胺类化合物配合，能够使得化学放大正性光刻胶的加工窗口DOF显著提升。同时，三嗪类光致产酸剂与含有氧原子的胺类化合物配合还能够改善光刻胶的顶部形貌，降低顶部损失，降低粗糙度。

结合第一方面，在本申请的第一方面的第一种可能的示例中，上述三嗪类化合物的结构式如下：

其中，R选自C_1～20烷基、苯基、苯乙烯基、萘基、取代的C_1～20苯基、取代的苯乙烯基或取代的萘基。

结合第一方面，在本申请的第一方面的第二种可能的示例中，上述三嗪类化合物包括以下结构中的任意一种：

结合第一方面，在本申请的第一方面的第三种可能的示例中，上述胺类化合物包括2-甲氧基乙氧基乙酯-2-三胺、异丙醇胺、N,N-二甲氨基乙酸乙酯、N,N-二甲基甘氨酸、N,N—二甲基乙醇胺、4,4’-二氨基二苯醚、N-叔丁氧基羰基二正辛基胺、N,N-二甲基甲酰胺、乙酰胺、N-甲基乙酰胺和苯甲酰胺中的任意一种或多种。

结合第一方面，在本申请的第一方面的第四种可能的示例中，上述基体树脂包括带有保护基团的聚对羟基苯乙烯。

在上述示例中，保护基团能够在酸的作用下脱离，使得基体树脂由碱不可溶变成碱可溶。