[发明专利]一种光刻胶组合物有效
| 申请号： | 202110731453.1 | 申请日： | 2021-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN113419404B | 公开（公告）日： | 2023-04-18 |
| 发明（设计）人： | 马洁;李冰;孙嘉;郑金红;陈昕;王文芳;董栋;张宁 | 申请（专利权）人： | 北京科华微电子材料有限公司;北京科华丰园微电子科技有限公司;上海彤程电子材料有限公司;彤程新材料集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;G03F7/004 |
| 代理公司： | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人： | 王丽莎 |
| 地址： | 101312 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 组合 | ||
1.一种光刻胶组合物，其特征在于，所述光刻胶组合物包括：100重量份化学放大正性光刻胶基体树脂、0.2～30重量份光致产酸剂和0.01～5重量份碱性添加剂；
其中，所述光致产酸剂为三嗪类化合物，所述碱性添加剂包括含有氧原子的胺类化合物；
所述三嗪类化合物包括以下结构中的任意一种：
所述胺类化合物包括2-甲氧基乙氧基乙酯-2-三胺、异丙醇胺、N,N-二甲氨基乙酸乙酯、N,N-二甲基甘氨酸、N,N—二甲基乙醇胺、4,4’-二氨基二苯醚、N-叔丁氧基羰基二正辛基胺、N,N-二甲基甲酰胺、乙酰胺、N-甲基乙酰胺和苯甲酰胺中的任意一种或多种。
2.根据权利要求1所述的光刻胶组合物，其特征在于，所述基体树脂包括带有保护基团的聚对羟基苯乙烯。
3.根据权利要求1所述的光刻胶组合物，其特征在于，所述基体树脂的结构通式如下：
其中，R为保护基团，R包括叔丁氧基羰基、1-甲氧基丙基、1-甲氧基-1-甲基乙基、1-乙氧基丙基、1-叔-丁氧基乙基、1-异丁氧基乙基和环氧戊烯中的任意一种或多种；
x+y＝100，x为60～80之间的整数。
4.根据权利要求3所述的光刻胶组合物，其特征在于，所述基体树脂的分子量为3000～30000。
5.根据权利要求1所述的光刻胶组合物，其特征在于，所述光刻胶组合物还包括助剂，所述助剂包括表面活性剂、溶解抑制剂、稳定剂、着色剂、增塑剂和防光晕剂中的任意一种或多种。
6.根据权利要求1所述的光刻胶组合物，其特征在于，所述光刻胶组合物还包括溶剂，所述溶剂的质量为所述光刻胶组合物质量的10～90wt％。
7.根据权利要求6所述的光刻胶组合物，其特征在于，所述溶剂包括丙二醇甲醚醋酸酯，乳酸乙酯，乙酸乙酯中的任意一种或多种。
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