[发明专利]一种深紫外发光二极管及其发光装置有效
申请号: | 202110727181.8 | 申请日: | 2021-06-29 |
公开(公告)号: | CN113451493B | 公开(公告)日: | 2023-01-13 |
发明(设计)人: | 江宾;林素慧;彭康伟;臧雅姝;曾明俊;曾炜竣;陈思河 | 申请(专利权)人: | 厦门三安光电有限公司 |
主分类号: | H01L33/62 | 分类号: | H01L33/62;H01L33/36;H01L33/20 |
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地址: | 361100 福建省厦门市*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本发明提出了一种深紫外发光二极管及其发光装置,具有衬底、制作在衬底上的半导体层序列,衬底的厚度为300μm至900μm,至少部分第一金属接触电极比有源层更靠近发光二极管边缘,即至少部分第一金属接触电极位于激光切割面和有源层之间,有源层与激光切割面最近的距离为30μm至100μm,第一金属接触电极和第二焊盘设置在竖直投影面上不重合,第二焊盘设置为U型,P焊盘半环绕的设置在第一金属接触电极外,两侧的部分第一金属接触电极与第二焊盘电极平行设置,第一金属接触电极的一端设置在第二焊盘开口内,解决深紫外产品有源层容易被激光破坏的问题,降低激光对发光二极管特别是有源层造成的影响,同时提升封装件中发光二极管的推力。 | ||
搜索关键词: | 一种 深紫 发光二极管 及其 发光 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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